La herramienta de nanolitografía versátil y modular
Customer applications
(L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
(Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
Why customers choose our systems
Technical Data
| Sonda Térmica Escritura | Láser directo Sublimación | ||
|---|---|---|---|
| Punta única | Decapede | ||
| Rendimiento del patrón | |||
| Tamaño mínimo de la estructura [nm] | 15 | 15 | 600 |
| Líneas y espacios mínimos [medio paso, nm] | 25 | 25 | 1000 |
| Escala de grises / Resolución 3D (tamaño del paso en PPA) [nm] | 2 | 2 | |
| Tamaño máximo del campo de escritura [X μm x Y μm]. | 60 x 60 | 60 x 60 | 60 x 60 |
| Precisión de cosido de campo (sin marcadores, utilizando imágenes in situ) [nm] | 25 | 25 | 600 |
| Precisión de la superposición (sin marcadores, utilizando imágenes in situ) [nm] | 25 | 25 | 600 |
| Velocidad de escritura (velocidad de escaneado típica) [mm/s] | 1 | 1 | 5 |
| Velocidad de escritura (píxel de 50 nm) [μm²/min] | 1000 | 10 000 | 100 000 |
| Rendimiento de las imágenes topográficas | |||
| Resolución de la imagen lateral (tamaño de la característica) [nm] | 10 | ||
| Resolución vertical (sensibilidad topográfica) [nm] | <0.5 | ||
| Velocidad de imagen (@ 50 nm de resolución) [μm²/min] | 1000 | 10 000 |
| Características del sistema base | |
|---|---|
| Tamaños de sustrato | De 1 x 1 mm² a 100 x 100 mm² (150 x 150 mm² posible con limitaciones)
Grosor: hasta 10 mm |
| Microscopio óptico | Resolución digital de 0,6 μm, límite de difracción de 2 μm, campo de visión de 1,0 mm x 1,0 mm, autoenfoque |
| Soporte magnético en voladizo | Cambio de puntas rápido (<1 min) y preciso |
| Aislamiento de las vibraciones | Etapa de aislamiento activo de las vibraciones |
| Características opcionales del sistema / modularidad | |
| Sublimación láser directa | Fuente láser y óptica: Láser de fibra CW de 405 nm de longitud de onda, 300 mW, 1,2 μm de tamaño mínimo del punto focal Enfoque automático del láser: Utilizando el sensor de distancia del voladizo NanoFrazor |
| Decapede | Escritura paralela con 10 consejos |
| Vivienda independiente | Aislamiento acústico de tres capas, aislamiento superior de las vibraciones (> 98% @ 10 Hz) | Control por PC de la temperatura y la humedad , regulación del flujo de gas | (Dimensiones 185 cm x 78 cm x 128 cm / peso 650 kg) |
| Integración total en la guantera | Integración en guantera disponible para nanolitografía en un entorno controlado |
| Características del voladizo NanoFrazor (tanto de punta única como Decapede) | |
| Componentes integrados | Calentador de puntas, sensor de topografía, accionamiento electrostático |
| Geometría de la punta | Punta cónica con |
| Rango de temperatura del calentador de puntas | 25 °C - 1100 °C ( |
| Dimensiones del sistema base y requisitos de instalación | |
| Altura × anchura × profundidad | Unidad de sobremesa: 44 cm x 40 cm x 45 cm Controlador: 84 cm x 60 cm x 56 cm |
| Peso | Unidad de sobremesa: 50 kg Controlador: 80 kg |
| Entrada de alimentación | 1 x 110 o 220 V CA, 10 A |
| Características del software | |
| Importación de GDS y mapas de bits, 256 niveles de escala de grises, análisis y dibujo de imágenes topográficas para superposición, mezcla y combinación entre escritura con punta y láser, rutinas de calibración totalmente automatizadas, scripting en Python |
