MLA 150 Alineador sin máscara

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El estándar moderno en litografía

  • Descripción del producto

  • ¿Te frenan los altos costes y los largos plazos de entrega de las fotomáscaras? ¿Quieres iterar diseños al instante sin la larga formación que requieren los alineadores de máscaras tradicionales?

    Descubre MLA 150 y el mundo de la litografía digital.

    El moderno alineador sin máscara sustituye a la tecnología heredada con una solución rápida, flexible y extraordinariamente fácil de usar, diseñada para ofrecer el máximo rendimiento. Al utilizar un dispositivo de espejo digital (DMD) como máscara dinámica, el MLA 150 supera los inconvenientes de las fotomáscaras físicas. Pasa de un diseño digital a un sustrato perfectamente modelado en cuestión de minutos, permitiendo a tus usuarios acelerar la investigación en campos como los dispositivos cuánticos, MEMS, microóptica y ciencias de la vida.

    Por qué MLA 150 es la opción ideal para tu laboratorio

    La MLA 150 se diseñó desde cero para resolver los principales retos de las instalaciones de I+D académicas e industriales. Aborda directamente problemas como los largos plazos de entrega de las fotomáscaras, los elevados costes recurrentes y la pronunciada curva de aprendizaje de los sistemas tradicionales.

    Diseñado para instalaciones multiusuario

    Reduce tus gastos de formación y maximiza el tiempo de funcionamiento de la herramienta. La MLA 150 es tan intuitiva que los nuevos usuarios pueden estar totalmente capacitados para trabajar de forma autónoma en menos de una hora. Su software fácil de usar y su flujo de trabajo optimizado se adaptan perfectamente a un entorno de laboratorio compartido, razón por la cual el MLA 150 se ha convertido en una herramienta esencial en las principales salas blancas de todo el mundo.

    Flexibilidad sin igual para investigación avanzada y mucho más

    Su trabajo no es estándar, y su herramienta de litografía tampoco debería serlo. Tanto si está avanzando en investigaciones de vanguardia, acelerando la innovación mediante la creación rápida de prototipos o produciendo series pequeñas de alta calidad, la MLA 150 se adapta a sus necesidades, y no al revés.

    • Maneja una Amplia Gama de Resistencias: Instala una o dos longitudes de onda láser diferentes (375 nm y/o 405 nm) simultáneamente para exponer toda la gama de fotorresistencias de banda ancha, línea g, h e i sin cambios de hardware.
    • Trabaja con sustratos difíciles: Los mandriles de vacío especializados te permiten manipular fácilmente muestras difíciles, como pequeñas piezas de sustrato de hasta 3×3 mm², láminas delgadas y obleas deformadas.
    • Cree estructuras 2.5D y de alta relación de aspecto: utilice el modo de exposición en escala de grises integrado para fabricar microestructuras 2.5D complejas, o el modo de alta relación de aspecto para crear patrones de resinas gruesas con paredes laterales empinadas, ideales para MEMS y microfluídica.
    • Modo “Dibujar” interactivo: Dibuja y expone directamente patrones sobre la imagen de la cámara en directo de tu muestra, perfecto para crear prototipos rápidamente o para colocar electrodos con precisión sobre características únicas como copos de grafeno o nanocables.

    Alta velocidad, alta precisión, sin compromisos

    Facilidad de uso no significa menor rendimiento. La MLA 150 ofrece la velocidad y precisión que necesitas para superar los límites de la fabricación.

    • Resolución submicrónica: Consigue un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm para crear dispositivos complejos de alta resolución.
    • Rendimiento excepcional: Expone una oblea completa de 150 mm en menos de 16 minutos.
    • Alineación automatizada avanzada: El sistema alcanza una precisión de alineación de 250 nm y compensa digitalmente el desplazamiento, la rotación, la escala y el cizallamiento, ajustes imposibles con máscaras físicas.
    • Enfoque perfecto: Un sistema de autoenfoque dinámico garantiza unos rasgos nítidos y uniformes, manejando eficazmente sustratos con dibujos, alabeados o delicados.
    • Máxima estabilidad: Una cámara ambiental integrada con flujo de aire laminar de temperatura controlada (±0,1 °C) minimiza los efectos de la expansión térmica, garantizando resultados estables y repetibles.

    Reduce drásticamente tus costes operativos

    Elimina el mayor y más persistente gasto en litografía: la fotomáscara. Con la MLA 150, no hay costes de adquisición de máscaras ni plazos de entrega de varias semanas asociados. También eliminas los esfuerzos de limpieza y almacenamiento y eliminas el riesgo de costosas roturas. Combinado con una vida útil del láser de 10-20 años y un mantenimiento sencillo, el MLA 150 ofrece un coste total de propiedad excepcionalmente bajo.

    Aplicaciones clave

    Desde la física fundamental a las biociencias aplicadas, el MLA 150 es la herramienta de confianza:

    • Nanofabricación: Dispositivos cuánticos, materiales 2D, nanohilos semiconductores
    • MEMS y MOEMS: Sensores, actuadores, elementos microópticos, microfluidos
    • Ciencia de los materiales: Creación de patrones de nuevos materiales
    • Ciencias de la vida: Dispositivos Lab-on-a-chip, biosensores

    Únete a cientos de instituciones líderes

    Descubra por qué las principales universidades y centros de investigación de todo el mundo han elegido el MLA 150 para sustituir sus alineadores de máscaras. Contáctenos para descubrir cómo potenciar a sus usuarios y modernizar su laboratorio.

    ¿Te frenan los altos costes y los largos plazos de entrega de las fotomáscaras? ¿Quieres iterar diseños al instante sin la larga formación que requieren los alineadores de máscaras tradicionales?

    Descubre MLA 150 y el mundo de la litografía digital.

    El moderno alineador sin máscara sustituye a la tecnología heredada con una solución rápida, flexible y extraordinariamente fácil de usar, diseñada para ofrecer el máximo rendimiento. Al utilizar un dispositivo de espejo digital (DMD) como máscara dinámica, el MLA 150 supera los inconvenientes de las fotomáscaras físicas. Pasa de un diseño digital a un sustrato perfectamente modelado en cuestión de minutos, permitiendo a tus usuarios acelerar la investigación en campos como los dispositivos cuánticos, MEMS, microóptica y ciencias de la vida.

    Por qué MLA 150 es la opción ideal para tu laboratorio

    La MLA 150 se diseñó desde cero para resolver los principales retos de las instalaciones de I+D académicas e industriales. Aborda directamente problemas como los largos plazos de entrega de las fotomáscaras, los elevados costes recurrentes y la pronunciada curva de aprendizaje de los sistemas tradicionales.

    Diseñado para instalaciones multiusuario

    Reduce tus gastos de formación y maximiza el tiempo de funcionamiento de la herramienta. La MLA 150 es tan intuitiva que los nuevos usuarios pueden estar totalmente capacitados para trabajar de forma autónoma en menos de una hora. Su software fácil de usar y su flujo de trabajo optimizado se adaptan perfectamente a un entorno de laboratorio compartido, razón por la cual el MLA 150 se ha convertido en una herramienta esencial en las principales salas blancas de todo el mundo.

    Flexibilidad sin igual para investigación avanzada y mucho más

    Su trabajo no es estándar, y su herramienta de litografía tampoco debería serlo. Tanto si está avanzando en investigaciones de vanguardia, acelerando la innovación mediante la creación rápida de prototipos o produciendo series pequeñas de alta calidad, la MLA 150 se adapta a sus necesidades, y no al revés.

    • Maneja una Amplia Gama de Resistencias: Instala una o dos longitudes de onda láser diferentes (375 nm y/o 405 nm) simultáneamente para exponer toda la gama de fotorresistencias de banda ancha, línea g, h e i sin cambios de hardware.
    • Trabaja con sustratos difíciles: Los mandriles de vacío especializados te permiten manipular fácilmente muestras difíciles, como pequeñas piezas de sustrato de hasta 3×3 mm², láminas delgadas y obleas deformadas.
    • Cree estructuras 2.5D y de alta relación de aspecto: utilice el modo de exposición en escala de grises integrado para fabricar microestructuras 2.5D complejas, o el modo de alta relación de aspecto para crear patrones de resinas gruesas con paredes laterales empinadas, ideales para MEMS y microfluídica.
    • Modo “Dibujar” interactivo: Dibuja y expone directamente patrones sobre la imagen de la cámara en directo de tu muestra, perfecto para crear prototipos rápidamente o para colocar electrodos con precisión sobre características únicas como copos de grafeno o nanocables.

    Alta velocidad, alta precisión, sin compromisos

    Facilidad de uso no significa menor rendimiento. La MLA 150 ofrece la velocidad y precisión que necesitas para superar los límites de la fabricación.

    • Resolución submicrónica: Consigue un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm para crear dispositivos complejos de alta resolución.
    • Rendimiento excepcional: Expone una oblea completa de 150 mm en menos de 16 minutos.
    • Alineación automatizada avanzada: El sistema alcanza una precisión de alineación de 250 nm y compensa digitalmente el desplazamiento, la rotación, la escala y el cizallamiento, ajustes imposibles con máscaras físicas.
    • Enfoque perfecto: Un sistema de autoenfoque dinámico garantiza unos rasgos nítidos y uniformes, manejando eficazmente sustratos con dibujos, alabeados o delicados.
    • Máxima estabilidad: Una cámara ambiental integrada con flujo de aire laminar de temperatura controlada (±0,1 °C) minimiza los efectos de la expansión térmica, garantizando resultados estables y repetibles.

    Reduce drásticamente tus costes operativos

    Elimina el mayor y más persistente gasto en litografía: la fotomáscara. Con la MLA 150, no hay costes de adquisición de máscaras ni plazos de entrega de varias semanas asociados. También eliminas los esfuerzos de limpieza y almacenamiento y eliminas el riesgo de costosas roturas. Combinado con una vida útil del láser de 10-20 años y un mantenimiento sencillo, el MLA 150 ofrece un coste total de propiedad excepcionalmente bajo.

    Aplicaciones clave

    Desde la física fundamental a las biociencias aplicadas, el MLA 150 es la herramienta de confianza:

    • Nanofabricación: Dispositivos cuánticos, materiales 2D, nanohilos semiconductores
    • MEMS y MOEMS: Sensores, actuadores, elementos microópticos, microfluidos
    • Ciencia de los materiales: Creación de patrones de nuevos materiales
    • Ciencias de la vida: Dispositivos Lab-on-a-chip, biosensores

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    > 250 sistemas instalados

  • Productos destacados

  • Perfecto para instalaciones multiusuario

    Menos de 1h de formación para cualificarse plenamente como usuario

    Alineación rápida y precisa

    Alineación frontal de 250 nm, alineación trasera, compensación del error de alineación

    Flexible

    Se pueden instalar dos láseres simultáneamente en el mismo sistema para exponer toda la gama de fotorresistencias
    Diferentes modos de exposición disponibles para una estructuración rápida o de alta calidad
    Mandriles de vacío adicionales para muestras difíciles como sustratos pequeños, láminas o sustratos alabeados.

    Bajos costes de funcionamiento y fácil mantenimiento

    10-20 años de vida útil del láser

    Litografía de escritura directa

    Sin costes, esfuerzos ni riesgos de seguridad relacionados con la máscara

    Modo Escala de grises

    Para estructuras simples 2,5D

    Calidad de la exposición

    Rugosidad de los bordes 60 nm; uniformidad de CD 100 nm; compensación de autoenfoque para sustratos alabeados/corrugados

    Tamaño mínimo del elemento

    Dos modos de escritura diferentes disponibles con un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm.

    Fácil de usar

    El software y el flujo de trabajo específicamente diseñados hacen que el funcionamiento de la herramienta sea rápido y sencillo

    Velocidad de exposición

    Oblea de 150 mm en <16 min con láser de 405 nm

  • Módulos disponibles

  • Longitud de onda de exposición

    Las fuentes láser de diodo a 375 nm y/o 405 nm pueden montarse juntas y utilizarse indistintamente para exponer diferentes fotorresistencias

    Mandriles intercambiables

    Platos de vacío adicionales para muestras difíciles, como sustratos pequeños, láminas o sustratos alabeados
    Disposición personalizada de los platos de vacío bajo pedido

    Modo Dibujar

    Importación y superposición de archivos BMP sobre la imagen del microscopio en tiempo real, como en un alineador de máscaras virtual; se pueden dibujar líneas y formas sencillas en la imagen de la cámara en tiempo real para una exposición inmediata.

    Autoenfoque

    Autoenfoque neumático u óptico para una exposición perfecta de muestras pequeñas (menos de 10 mm)

    Tamaños de sustrato variables

    De 3 mm a 6″; hasta 8″ bajo pedido.

    Alineación avanzada de campos

    Alineación automática campo a campo en troqueles individuales de la oblea para una precisión de alineación superior

    Sistema de carga automática opcional.

    Puede manejar máscaras de hasta 7″ y obleas de hasta 8″. Hay disponibles como opciones una segunda estación de casete, un prealineador y un escáner de obleas.

¿Te frenan los altos costes y los largos plazos de entrega de las fotomáscaras? ¿Quieres iterar diseños al instante sin la larga formación que requieren los alineadores de máscaras tradicionales?

Descubre MLA 150 y el mundo de la litografía digital.

El moderno alineador sin máscara sustituye a la tecnología heredada con una solución rápida, flexible y extraordinariamente fácil de usar, diseñada para ofrecer el máximo rendimiento. Al utilizar un dispositivo de espejo digital (DMD) como máscara dinámica, el MLA 150 supera los inconvenientes de las fotomáscaras físicas. Pasa de un diseño digital a un sustrato perfectamente modelado en cuestión de minutos, permitiendo a tus usuarios acelerar la investigación en campos como los dispositivos cuánticos, MEMS, microóptica y ciencias de la vida.

Por qué MLA 150 es la opción ideal para tu laboratorio

La MLA 150 se diseñó desde cero para resolver los principales retos de las instalaciones de I+D académicas e industriales. Aborda directamente problemas como los largos plazos de entrega de las fotomáscaras, los elevados costes recurrentes y la pronunciada curva de aprendizaje de los sistemas tradicionales.

Diseñado para instalaciones multiusuario

Reduce tus gastos de formación y maximiza el tiempo de funcionamiento de la herramienta. La MLA 150 es tan intuitiva que los nuevos usuarios pueden estar totalmente capacitados para trabajar de forma autónoma en menos de una hora. Su software fácil de usar y su flujo de trabajo optimizado se adaptan perfectamente a un entorno de laboratorio compartido, razón por la cual el MLA 150 se ha convertido en una herramienta esencial en las principales salas blancas de todo el mundo.

Flexibilidad sin igual para investigación avanzada y mucho más

Su trabajo no es estándar, y su herramienta de litografía tampoco debería serlo. Tanto si está avanzando en investigaciones de vanguardia, acelerando la innovación mediante la creación rápida de prototipos o produciendo series pequeñas de alta calidad, la MLA 150 se adapta a sus necesidades, y no al revés.

  • Maneja una Amplia Gama de Resistencias: Instala una o dos longitudes de onda láser diferentes (375 nm y/o 405 nm) simultáneamente para exponer toda la gama de fotorresistencias de banda ancha, línea g, h e i sin cambios de hardware.
  • Trabaja con sustratos difíciles: Los mandriles de vacío especializados te permiten manipular fácilmente muestras difíciles, como pequeñas piezas de sustrato de hasta 3×3 mm², láminas delgadas y obleas deformadas.
  • Cree estructuras 2.5D y de alta relación de aspecto: utilice el modo de exposición en escala de grises integrado para fabricar microestructuras 2.5D complejas, o el modo de alta relación de aspecto para crear patrones de resinas gruesas con paredes laterales empinadas, ideales para MEMS y microfluídica.
  • Modo “Dibujar” interactivo: Dibuja y expone directamente patrones sobre la imagen de la cámara en directo de tu muestra, perfecto para crear prototipos rápidamente o para colocar electrodos con precisión sobre características únicas como copos de grafeno o nanocables.

Alta velocidad, alta precisión, sin compromisos

Facilidad de uso no significa menor rendimiento. La MLA 150 ofrece la velocidad y precisión que necesitas para superar los límites de la fabricación.

  • Resolución submicrónica: Consigue un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm para crear dispositivos complejos de alta resolución.
  • Rendimiento excepcional: Expone una oblea completa de 150 mm en menos de 16 minutos.
  • Alineación automatizada avanzada: El sistema alcanza una precisión de alineación de 250 nm y compensa digitalmente el desplazamiento, la rotación, la escala y el cizallamiento, ajustes imposibles con máscaras físicas.
  • Enfoque perfecto: Un sistema de autoenfoque dinámico garantiza unos rasgos nítidos y uniformes, manejando eficazmente sustratos con dibujos, alabeados o delicados.
  • Máxima estabilidad: Una cámara ambiental integrada con flujo de aire laminar de temperatura controlada (±0,1 °C) minimiza los efectos de la expansión térmica, garantizando resultados estables y repetibles.

Reduce drásticamente tus costes operativos

Elimina el mayor y más persistente gasto en litografía: la fotomáscara. Con la MLA 150, no hay costes de adquisición de máscaras ni plazos de entrega de varias semanas asociados. También eliminas los esfuerzos de limpieza y almacenamiento y eliminas el riesgo de costosas roturas. Combinado con una vida útil del láser de 10-20 años y un mantenimiento sencillo, el MLA 150 ofrece un coste total de propiedad excepcionalmente bajo.

Aplicaciones clave

Desde la física fundamental a las biociencias aplicadas, el MLA 150 es la herramienta de confianza:

  • Nanofabricación: Dispositivos cuánticos, materiales 2D, nanohilos semiconductores
  • MEMS y MOEMS: Sensores, actuadores, elementos microópticos, microfluidos
  • Ciencia de los materiales: Creación de patrones de nuevos materiales
  • Ciencias de la vida: Dispositivos Lab-on-a-chip, biosensores

Únete a cientos de instituciones líderes

Descubra por qué las principales universidades y centros de investigación de todo el mundo han elegido el MLA 150 para sustituir sus alineadores de máscaras. Contáctenos para descubrir cómo potenciar a sus usuarios y modernizar su laboratorio.

¿Te frenan los altos costes y los largos plazos de entrega de las fotomáscaras? ¿Quieres iterar diseños al instante sin la larga formación que requieren los alineadores de máscaras tradicionales?

Descubre MLA 150 y el mundo de la litografía digital.

El moderno alineador sin máscara sustituye a la tecnología heredada con una solución rápida, flexible y extraordinariamente fácil de usar, diseñada para ofrecer el máximo rendimiento. Al utilizar un dispositivo de espejo digital (DMD) como máscara dinámica, el MLA 150 supera los inconvenientes de las fotomáscaras físicas. Pasa de un diseño digital a un sustrato perfectamente modelado en cuestión de minutos, permitiendo a tus usuarios acelerar la investigación en campos como los dispositivos cuánticos, MEMS, microóptica y ciencias de la vida.

Por qué MLA 150 es la opción ideal para tu laboratorio

La MLA 150 se diseñó desde cero para resolver los principales retos de las instalaciones de I+D académicas e industriales. Aborda directamente problemas como los largos plazos de entrega de las fotomáscaras, los elevados costes recurrentes y la pronunciada curva de aprendizaje de los sistemas tradicionales.

Diseñado para instalaciones multiusuario

Reduce tus gastos de formación y maximiza el tiempo de funcionamiento de la herramienta. La MLA 150 es tan intuitiva que los nuevos usuarios pueden estar totalmente capacitados para trabajar de forma autónoma en menos de una hora. Su software fácil de usar y su flujo de trabajo optimizado se adaptan perfectamente a un entorno de laboratorio compartido, razón por la cual el MLA 150 se ha convertido en una herramienta esencial en las principales salas blancas de todo el mundo.

Flexibilidad sin igual para investigación avanzada y mucho más

Su trabajo no es estándar, y su herramienta de litografía tampoco debería serlo. Tanto si está avanzando en investigaciones de vanguardia, acelerando la innovación mediante la creación rápida de prototipos o produciendo series pequeñas de alta calidad, la MLA 150 se adapta a sus necesidades, y no al revés.

  • Maneja una Amplia Gama de Resistencias: Instala una o dos longitudes de onda láser diferentes (375 nm y/o 405 nm) simultáneamente para exponer toda la gama de fotorresistencias de banda ancha, línea g, h e i sin cambios de hardware.
  • Trabaja con sustratos difíciles: Los mandriles de vacío especializados te permiten manipular fácilmente muestras difíciles, como pequeñas piezas de sustrato de hasta 3×3 mm², láminas delgadas y obleas deformadas.
  • Cree estructuras 2.5D y de alta relación de aspecto: utilice el modo de exposición en escala de grises integrado para fabricar microestructuras 2.5D complejas, o el modo de alta relación de aspecto para crear patrones de resinas gruesas con paredes laterales empinadas, ideales para MEMS y microfluídica.
  • Modo “Dibujar” interactivo: Dibuja y expone directamente patrones sobre la imagen de la cámara en directo de tu muestra, perfecto para crear prototipos rápidamente o para colocar electrodos con precisión sobre características únicas como copos de grafeno o nanocables.

Alta velocidad, alta precisión, sin compromisos

Facilidad de uso no significa menor rendimiento. La MLA 150 ofrece la velocidad y precisión que necesitas para superar los límites de la fabricación.

  • Resolución submicrónica: Consigue un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm para crear dispositivos complejos de alta resolución.
  • Rendimiento excepcional: Expone una oblea completa de 150 mm en menos de 16 minutos.
  • Alineación automatizada avanzada: El sistema alcanza una precisión de alineación de 250 nm y compensa digitalmente el desplazamiento, la rotación, la escala y el cizallamiento, ajustes imposibles con máscaras físicas.
  • Enfoque perfecto: Un sistema de autoenfoque dinámico garantiza unos rasgos nítidos y uniformes, manejando eficazmente sustratos con dibujos, alabeados o delicados.
  • Máxima estabilidad: Una cámara ambiental integrada con flujo de aire laminar de temperatura controlada (±0,1 °C) minimiza los efectos de la expansión térmica, garantizando resultados estables y repetibles.

Reduce drásticamente tus costes operativos

Elimina el mayor y más persistente gasto en litografía: la fotomáscara. Con la MLA 150, no hay costes de adquisición de máscaras ni plazos de entrega de varias semanas asociados. También eliminas los esfuerzos de limpieza y almacenamiento y eliminas el riesgo de costosas roturas. Combinado con una vida útil del láser de 10-20 años y un mantenimiento sencillo, el MLA 150 ofrece un coste total de propiedad excepcionalmente bajo.

Aplicaciones clave

Desde la física fundamental a las biociencias aplicadas, el MLA 150 es la herramienta de confianza:

  • Nanofabricación: Dispositivos cuánticos, materiales 2D, nanohilos semiconductores
  • MEMS y MOEMS: Sensores, actuadores, elementos microópticos, microfluidos
  • Ciencia de los materiales: Creación de patrones de nuevos materiales
  • Ciencias de la vida: Dispositivos Lab-on-a-chip, biosensores

Únete a cientos de instituciones líderes

Descubra por qué las principales universidades y centros de investigación de todo el mundo han elegido el MLA 150 para sustituir sus alineadores de máscaras. Contáctenos para descubrir cómo potenciar a sus usuarios y modernizar su laboratorio.

> 250 sistemas instalados

Perfecto para instalaciones multiusuario

Menos de 1h de formación para cualificarse plenamente como usuario

Alineación rápida y precisa

Alineación frontal de 250 nm, alineación trasera, compensación del error de alineación

Flexible

Se pueden instalar dos láseres simultáneamente en el mismo sistema para exponer toda la gama de fotorresistencias
Diferentes modos de exposición disponibles para una estructuración rápida o de alta calidad
Mandriles de vacío adicionales para muestras difíciles como sustratos pequeños, láminas o sustratos alabeados.

Bajos costes de funcionamiento y fácil mantenimiento

10-20 años de vida útil del láser

Litografía de escritura directa

Sin costes, esfuerzos ni riesgos de seguridad relacionados con la máscara

Modo Escala de grises

Para estructuras simples 2,5D

Calidad de la exposición

Rugosidad de los bordes 60 nm; uniformidad de CD 100 nm; compensación de autoenfoque para sustratos alabeados/corrugados

Tamaño mínimo del elemento

Dos modos de escritura diferentes disponibles con un tamaño mínimo de rasgo de hasta 0,45 μm.

Fácil de usar

El software y el flujo de trabajo específicamente diseñados hacen que el funcionamiento de la herramienta sea rápido y sencillo

Velocidad de exposición

Oblea de 150 mm en <16 min con láser de 405 nm

Longitud de onda de exposición

Las fuentes láser de diodo a 375 nm y/o 405 nm pueden montarse juntas y utilizarse indistintamente para exponer diferentes fotorresistencias

Mandriles intercambiables

Platos de vacío adicionales para muestras difíciles, como sustratos pequeños, láminas o sustratos alabeados
Disposición personalizada de los platos de vacío bajo pedido

Modo Dibujar

Importación y superposición de archivos BMP sobre la imagen del microscopio en tiempo real, como en un alineador de máscaras virtual; se pueden dibujar líneas y formas sencillas en la imagen de la cámara en tiempo real para una exposición inmediata.

Autoenfoque

Autoenfoque neumático u óptico para una exposición perfecta de muestras pequeñas (menos de 10 mm)

Tamaños de sustrato variables

De 3 mm a 6″; hasta 8″ bajo pedido.

Alineación avanzada de campos

Alineación automática campo a campo en troqueles individuales de la oblea para una precisión de alineación superior

Sistema de carga automática opcional.

Puede manejar máscaras de hasta 7″ y obleas de hasta 8″. Hay disponibles como opciones una segunda estación de casete, un prealineador y un escáner de obleas.

Aplicaciones para clientes

Líneas y espacios de 450 nm
Líneas y espacios de 450 nm generados en una fotoresina AZ MIR de 300 nm de espesor aplicando el modo de alta calidad con su interpolación de píxeles más fina durante la exposición.
Patrones 3D de un solo paso: estructuras doblemente reentrantes
Patrones 3D de un solo paso: estructuras doblemente reentrantes Lea la nota de aplicación para obtener más información sobre el proceso de fabricación.
Canales microfluídicos y estructuras reticulares con elementos suspendidos fabricados en mr DWL40.
Canales microfluídicos y estructuras reticulares con elementos suspendidos fabricados en mr DWL40. Lea la nota de aplicación para obtener más información sobre el proceso de fabricación.
Un oblea de detectores superconductores para la cámara del Telescopio del Polo Sur (SPT). La cámara alberga una matriz de más de 16 000 dispositivos. Cada uno contiene elementos superconductores ultradelgados con características de apenas 1 µm. Aquí, el MLA 150 se utilizó para fabricar las pistas de Nb, que aparecen como bandas entre los píxeles. (Cortesía de CNM en Argonne National Laboratory, foto de Clarence Chang)
Un oblea de detectores superconductores para la cámara del Telescopio del Polo Sur (SPT). La cámara alberga una matriz de más de 16 000 dispositivos. Cada uno contiene elementos superconductores ultradelgados con características de apenas 1 µm. Aquí, el MLA 150 se utilizó para fabricar las pistas de Nb, que aparecen como bandas entre los píxeles. (Cortesía de CNM en Argonne National Laboratory, foto de Clarence Chang)
Una rueda dentada conformada en SU‑8 de 800 µm de espesor demuestra la capacidad del MLA 150 para crear paredes laterales verticales en horquillas gruesas, ruedas dentadas, materiales piezoeléctricos, sensores bioquímicos o de presión, y otros dispositivos físicos miniaturizados.
Una rueda dentada conformada en SU‑8 de 800 µm de espesor demuestra la capacidad del MLA 150 para crear paredes laterales verticales en horquillas gruesas, ruedas dentadas, materiales piezoeléctricos, sensores bioquímicos o de presión, y otros dispositivos físicos miniaturizados.
Un maestro para mezclador microfluídico que se transferirá mediante litografía blanda en PDMS. La estructura se ha formado en SU‑8 de 100 µm con la longitud de onda de 375 nm del láser MLA 150. Este tipo de estructura requiere alta productividad para un patrón rápido de gran superficie y puntadas precisas para garantizar la suavidad de los canales. (Cortesía del Centro CMi EPFL de MicroNanoTechnology)
Un maestro para mezclador microfluídico que se transferirá mediante litografía blanda en PDMS. La estructura se ha formado en SU‑8 de 100 µm con la longitud de onda de 375 nm del láser MLA 150. Este tipo de estructura requiere alta productividad para un patrón rápido de gran superficie y puntadas precisas para garantizar la suavidad de los canales. (Cortesía del Centro CMi EPFL de MicroNanoTechnology)
Nanohoyos como trampas posicionadas con precisión para nanopartículas, fabricados mediante litografía “mix-and-match”. Los nanohoyos cuadrados de 100 nm, creados con litografía por haz de electrones, están separados por zanjas gruesas hechas con el MLA 150, alineadas con precisión al patrón de nanohoyos existente. (Cortesía de EPFL LMIS1, Lausana)
Nanohoyos como trampas posicionadas con precisión para nanopartículas, fabricados mediante litografía “mix-and-match”. Los nanohoyos cuadrados de 100 nm, creados con litografía por haz de electrones, están separados por zanjas gruesas hechas con el MLA 150, alineadas con precisión al patrón de nanohoyos existente. (Cortesía de EPFL LMIS1, Lausana)
Una matriz de SQUIDs (dispositivos de interferencia cuántica superconductora) utilizada para la lectura de microcalorímetros magnéticos metálicos (detectores de partículas de alta resolución operados a baja temperatura). Estos dispositivos están microfabricados en grandes redes, con hasta 18 capas y características submicrónicas. El MLA 150 garantiza la precisión extrema de superposición crucial para esta aplicación. (Cortesía del Kirchhoff Institute for Physics de la Universidad de Heidelberg)
Una matriz de SQUIDs (dispositivos de interferencia cuántica superconductora) utilizada para la lectura de microcalorímetros magnéticos metálicos (detectores de partículas de alta resolución operados a baja temperatura). Estos dispositivos están microfabricados en grandes redes, con hasta 18 capas y características submicrónicas. El MLA 150 garantiza la precisión extrema de superposición crucial para esta aplicación. (Cortesía del Kirchhoff Institute for Physics de la Universidad de Heidelberg)
Este patrón específico en implantes de retina “OSTEmers” muestra un ejemplo de nuevos implantes médicos. Los OSTEmers, biocompatibles, impermeables y curables por UV, son muy prometedores para retinas artificiales. La exposición sin contacto mediante MLA 150 permite patternear este material, que es un líquido viscoso durante el procesado, algo prácticamente imposible con otras herramientas de litografía. (Cortesía del Laboratorio de Neuroingeniería de la EPFL)
Este patrón específico en implantes de retina “OSTEmers” muestra un ejemplo de nuevos implantes médicos. Los OSTEmers, biocompatibles, impermeables y curables por UV, son muy prometedores para retinas artificiales. La exposición sin contacto mediante MLA 150 permite patternear este material, que es un líquido viscoso durante el procesado, algo prácticamente imposible con otras herramientas de litografía. (Cortesía del Laboratorio de Neuroingeniería de la EPFL)

Por qué los clientes eligen nuestros sistemas

«El MLA 150 representa un excelente equilibrio entre flexibilidad, rendimiento y capacidad de procesamiento. En nuestras instalaciones de uso compartido, es muy valorado por su capacidad para realizar prototipos rápidos en sustratos de diferentes dimensiones y formas. La incorporación del MLA 150 ha supuesto un cambio decisivo en nuestro departamento de litografía, por lo que decidimos adquirir un segundo equipo.»

Dr. Philippe Flückiger, Director de operaciones
Escuela Politécnica Federal de Lausana (EPFL) Centro de MicroNanoTecnología (CMi)
Lausana, Suiza

«En DTU Nanolab, parte de la Universidad Técnica de Dinamarca, contamos actualmente con varios alineadores sin máscara de Heidelberg Instruments. Estas herramientas se adaptan perfectamente a nuestras operaciones basadas en la investigación, y además proporcionan soluciones versátiles a muchos de nuestros clientes industriales.
Desde la adquisición de los alineadores sin máscara, hemos observado una disminución considerable en el número de máscaras nuevas solicitadas para nuestros alineadores convencionales: de aproximadamente una máscara por día a cerca de una por mes. En general, estamos muy satisfechos con nuestros alineadores sin máscara, tanto desde el punto de vista del personal como de los usuarios.»

Jens H. Hemmigsen, Especialista en procesos
DTU Nanolab (Universidad Técnica de Dinamarca)
Lyngby, Dinamarca

“El escritor láser directo MLA 150, con su facilidad de uso y versatilidad, es el equipo de fotolitografía ideal. Como ya no se necesitan fotomáscaras para exponer la oblea, el MLA 150 ha ayudado a reducir drásticamente el tiempo y los costes asociados al desarrollo y la investigación de prototipos que requieren cambios frecuentes en el diseño.”

Dr. Julien Dorsaz, Ingeniero superior en fotolitografía
EPFL (CMi)
Lausana, Suiza

«La velocidad, la facilidad de uso y la precisión del MLA 150 nos llevaron a elegirlo en lugar de un alineador de máscaras.
Es una de nuestras herramientas clave para los trabajos de fotolitografía en el MCN. Los usuarios lo utilizan para escritura directa sobre diversos tipos de muestras (silicio, vidrio, cuarzo, diamante, niobato de litio, etc.) y tamaños (desde 3 mm × 3 mm hasta placas de máscara de 7 in × 7 in), así como para la fabricación de fotomáscaras.
Exponer una oblea completa de 6 pulgadas con círculos de 2 µm de diámetro y espaciado de 2 µm no habría sido posible sin él.»

Dr. Yang Choon Lim, Líder del equipo principal de ingeniería de procesos
Melbourne Centre for Nanofabrication (MCN)
Melbourne, Australia

«Trabajamos principalmente en un entorno de línea piloto y desarrollo, y hemos comprobado que la flexibilidad del MLA 150 es sumamente útil para probar nuevos conceptos de diseño. Esto es especialmente cierto para los numerosos usuarios de investigación a los que apoyamos en la sala limpia.
Además, el MLA 150 aporta un gran valor a nuestro trabajo de escalado de obleas, ya que nos permite probar distintos diseños de dispositivos en mosaicos más pequeños antes de comprometernos con procesos basados en máscaras de gran tamaño.
El MLA 150 es uno de los equipos más utilizados de forma constante en nuestra sala limpia. Los usuarios valoran mucho su capacidad para pasar directamente del concepto al diseño y de ahí a la exposición de la muestra.»

Dr. Tom Peach, Ingeniero principal de procesos
Institute for Compound Semiconductors, Universidad de Cardiff
Cardiff, Reino Unido

«Gracias a su fuente de luz de longitud de onda más corta, el MLA 150 ofrece una resolución inferior a 100 nm y una precisión de superposición de menos de 20 nm.
Este alto rendimiento, combinado con su robusta función de autoenfoque, lo convierte en una alternativa convincente a los escáneres KrF para los laboratorios que desean reemplazar sus steppers i-line o están considerando nuevas adquisiciones.»

Dr. Hiroshi Arimoto, Investigador
Oficina de Instalaciones de Nano-Procesamiento, Instituto Nacional de Ciencia y Tecnología Industrial Avanzada (AIST)
Tsukuba, Japón

Datos técnicos

Modo Escritura I *Modo de escritura II *
Rendimiento de escritura
Tamaño mínimo de la característica [μm].0,6 (0,45 opcional)1
Líneas y espacios mínimos [μm]0,8 (0,45 opcional)1.2
Alineación global de la 2ª capa [nm]500500
Alineación de la 2ª capa local [nm] 250250
Alineación posterior [nm]10001000
Tiempo de exposición láser 405 nm para oblea de 4″ [min]359
Tiempo de exposición Láser de 375 nm para oblea de 4″ [min]3520
Velocidad de escritura máx. Láser de 405 nm [mm²/min]. 2851100
Velocidad de escritura máx. Láser de 375 nm [mm²/min]. 285500
Características del sistema
Fuente de luzLáseres de diodo: 8 W a 405 nm, 2,8 W a 375 nm, o ambos
Tamaños de sustratoVariable: 3 x 3 mm² a 6″ x 6″ | Opcional: 8″ x 8″ Personalizable bajo pedido
Grosor del sustrato0 - 12 mm
Área máxima de exposición150 x 150 mm² | Opcional: 200 x 200 mm²
Caja de flujo de temperatura controladaEstabilidad térmica ± 0,1 °C
Enfoque automático en tiempo realMedidor de aire u óptico
Rango de compensación del enfoque automático180 μm
Escala de grises128 niveles de gris
Características del softwareAsistente de exposición, base de datos de resistencias, etiquetado automático y serialización, Modo Dibujo para exposiciones sin CAD, seguimiento / historial de sustratos
Dimensiones del sistema (unidad litográfica)
Altura × anchura × profundidad1950 mm × 1300 mm × 1300 mm
Peso1100 kg
Requisitos de instalación
Eléctrico230 VCA ± 5%, 50/60 Hz, 16 A
Aire comprimido6 - 10 bar
Consideraciones económicas
Ahorra en el coste de las fotomáscaras
Bajos costes de mantenimiento, consumo de energía y piezas de recambio
Fuentes de luz láser de estado sólido con una vida útil de varios años
* Sólo se puede instalar un modo de escritura en el sistema

Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.

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