Optimizado para la fabricación industrial, garantizando un alto rendimiento y una integración perfecta en la línea de producción
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Product Description
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El alineador sin máscara MLA 300 está diseñado para la producción de grandes volúmenes, y ofrece una flexibilidad y precisión inigualables en la litografía industrial. Admite obleas de hasta 300 x 300 mm, y se adapta dinámicamente a las variaciones de la superficie, eliminando la necesidad de una producción de máscaras costosa y lenta. Al sustituir las máscaras tradicionales por la exposición directa de datos, la MLA 300 permite soluciones innovadoras para retos litográficos complejos, como el envasado avanzado, la calibración de sensores y la fabricación de MEMS. Su alto rendimiento, resolución de 1,5 μm, flujo de trabajo simplificado y perfecta integración con los sistemas de ejecución de fabricación (MES) la convierten en la opción ideal para diversas aplicaciones, como dispositivos microfluídicos y otras tecnologías avanzadas.
Características principales
- Producción de alto rendimiento: Optimizado para la producción a escala industrial con un tamaño mínimo de rasgo de 1,5 µm. Para volúmenes mayores, también ofrecemos un modo de escritura de alto rendimiento con un tamaño mínimo de rasgo de 3 µm.
- Precisión avanzada: Este sistema ofrece la máxima calidad óptica, garantizando un patronaje preciso y exacto en una amplia gama de sustratos difíciles.
- Automatización completa: La MLA 300 dispone de automatización completa, incluidas opciones de carga personalizables, software avanzado diseñado para entornos de producción e integración con sistemas MES.
- Tecnología patentada de seguimiento del sustrato: El autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable y uniformidad en todas las superficies.
Aplicaciones
- Embalaje avanzado: Capaz de empaquetar obleas en forma de abanico, compensando las variaciones de altura y desplazamiento del chip.
- Sensores y circuitos integrados de sensores: Diseñados para la fabricación de sensores de alta precisión, garantizando un patronaje preciso y personalizable.
- Dispositivos MEMS y microfluídicos: Ideal para los diseños complejos que requieren las aplicaciones MEMS y microfluídicas.
- Componentes electrónicos discretos: Admite la producción de diversos componentes electrónicos con gran precisión y adaptabilidad.
- Circuitos integrados y ASIC: Optimizado para la producción eficiente de circuitos integrados analógicos y digitales, así como de ASIC.
- Tarjetas de sonda: Permite la producción de tarjetas de sonda de alta precisión garantizando un patrón y una alineación precisos para una comprobación e inspección eficaces.
- Electrónica de potencia: Optimizado para sustratos como los cerámicos, superando las variaciones de alabeo y grosor para ofrecer una calidad constante.
- Pantallas OLED: La alta precisión y flexibilidad hacen de la MLA 300 una elección excelente para la fabricación de pantallas OLED.
Flujo de trabajo y rentabilidad
- La litografía sin máscara supera las limitaciones de los sistemas basados en máscaras, ofreciendo un marco flexible para las correcciones de patrones por troquel, la serialización para el control de calidad o el rastreo de calibración en aplicaciones de sensores.
- Al eliminar la necesidad de adquisición, verificación y gestión de máscaras, el MLA 300 agiliza el proceso de producción, reduciendo tanto el tiempo como la complejidad, ya que los diseños se exponen directamente a partir de los datos.
- La MLA 300 aumenta el rendimiento, sobre todo en aplicaciones con sustratos difíciles, como los afectados por el procesado térmico, gracias a sus capacidades avanzadas.
- Un sistema de autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable incluso en superficies irregulares.
- Los costes de funcionamiento se reducen al mínimo gracias al láser de diodo de larga duración, que se calcula que puede durar hasta 10 años en producción 24/7, y a los requisitos mínimos de consumibles del sistema.
- La modularidad permite un mantenimiento rápido, reduciendo al mínimo el tiempo de inactividad.
Ponte en contacto con nosotros para saber más sobre el Alineador sin máscara MLA 300 y cómo puede optimizar tus procesos de microfabricación de alto rendimiento.
El alineador sin máscara MLA 300 está diseñado para la producción de grandes volúmenes, y ofrece una flexibilidad y precisión inigualables en la litografía industrial. Admite obleas de hasta 300 x 300 mm, y se adapta dinámicamente a las variaciones de la superficie, eliminando la necesidad de una producción de máscaras costosa y lenta. Al sustituir las máscaras tradicionales por la exposición directa de datos, la MLA 300 permite soluciones innovadoras para retos litográficos complejos, como el envasado avanzado, la calibración de sensores y la fabricación de MEMS. Su alto rendimiento, resolución de 1,5 μm, flujo de trabajo simplificado y perfecta integración con los sistemas de ejecución de fabricación (MES) la convierten en la opción ideal para diversas aplicaciones, como dispositivos microfluídicos y otras tecnologías avanzadas.
Características principales
- Producción de alto rendimiento: Optimizado para la producción a escala industrial con un tamaño mínimo de rasgo de 1,5 µm. Para volúmenes mayores, también ofrecemos un modo de escritura de alto rendimiento con un tamaño mínimo de rasgo de 3 µm.
- Precisión avanzada: Este sistema ofrece la máxima calidad óptica, garantizando un patronaje preciso y exacto en una amplia gama de sustratos difíciles.
- Automatización completa: La MLA 300 dispone de automatización completa, incluidas opciones de carga personalizables, software avanzado diseñado para entornos de producción e integración con sistemas MES.
- Tecnología patentada de seguimiento del sustrato: El autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable y uniformidad en todas las superficies.
Aplicaciones
- Embalaje avanzado: Capaz de empaquetar obleas en forma de abanico, compensando las variaciones de altura y desplazamiento del chip.
- Sensores y circuitos integrados de sensores: Diseñados para la fabricación de sensores de alta precisión, garantizando un patronaje preciso y personalizable.
- Dispositivos MEMS y microfluídicos: Ideal para los diseños complejos que requieren las aplicaciones MEMS y microfluídicas.
- Componentes electrónicos discretos: Admite la producción de diversos componentes electrónicos con gran precisión y adaptabilidad.
- Circuitos integrados y ASIC: Optimizado para la producción eficiente de circuitos integrados analógicos y digitales, así como de ASIC.
- Tarjetas de sonda: Permite la producción de tarjetas de sonda de alta precisión garantizando un patrón y una alineación precisos para una comprobación e inspección eficaces.
- Electrónica de potencia: Optimizado para sustratos como los cerámicos, superando las variaciones de alabeo y grosor para ofrecer una calidad constante.
- Pantallas OLED: La alta precisión y flexibilidad hacen de la MLA 300 una elección excelente para la fabricación de pantallas OLED.
Flujo de trabajo y rentabilidad
- La litografía sin máscara supera las limitaciones de los sistemas basados en máscaras, ofreciendo un marco flexible para las correcciones de patrones por troquel, la serialización para el control de calidad o el rastreo de calibración en aplicaciones de sensores.
- Al eliminar la necesidad de adquisición, verificación y gestión de máscaras, el MLA 300 agiliza el proceso de producción, reduciendo tanto el tiempo como la complejidad, ya que los diseños se exponen directamente a partir de los datos.
- La MLA 300 aumenta el rendimiento, sobre todo en aplicaciones con sustratos difíciles, como los afectados por el procesado térmico, gracias a sus capacidades avanzadas.
- Un sistema de autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable incluso en superficies irregulares.
- Los costes de funcionamiento se reducen al mínimo gracias al láser de diodo de larga duración, que se calcula que puede durar hasta 10 años en producción 24/7, y a los requisitos mínimos de consumibles del sistema.
- La modularidad permite un mantenimiento rápido, reduciendo al mínimo el tiempo de inactividad.
Ponte en contacto con nosotros para saber más sobre el Alineador sin máscara MLA 300 y cómo puede optimizar tus procesos de microfabricación de alto rendimiento.
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Product Highlights
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Litografía de escritura directa
Sin costes, esfuerzos ni riesgos de seguridad relacionados con la máscaraFlexibilidad
La escritura directa en la producción industrial permite correcciones del patrón por matriz, por ejemplo, para reaccionar ante distorsiones o variaciones del proceso y la serializaciónAhorra tiempo
Menor tiempo desde la creación del prototipo hasta la producción. La gestión digital del diseño sustituye a la biblioteca de máscaras convencionalCalidad de la exposición
Compensación óptica de escala, rotación; tecnología patentada de seguimiento del sustratoAutoenfoque dinámico
Uniformidad superior de las dimensiones críticas (CD) en sustratos alabeados u onduladosVelocidad de exposición
300 x 300 mm2 en 5 minutos (modo de escritura 3, dos módulos de exposición)Integración completa de las instalaciones
Cargador automático personalizable, mandril para sustratos que incluye sustratos alabeados, “asistentes” de flujo de trabajo personalizados e interfaz con sistemas de ejecución de fabricación (MES).Fácil de usar
Interfaz de usuario conforme a SEMI; “asistentes” de flujo de trabajo personalizados para los operadores del sistema -
Available Modules
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Módulo de Carga Automatizada
El plano SEMI-estándar BOLTS puede configurarse para casetes abiertos o Puertos de Carga para FOUP. El número y la configuración de los puertos pueden seleccionarse y personalizarse para sustratos redondos o rectangularesSistema de Ejecución de Fabricación (MES)
Integración “asistentes” de flujo de trabajo personalizables para iniciar trabajos de exposición, e integración a un MES central mediante protocolos SECS/GEM u OPC-UAAlineación trasera
Alineación de la cara posterior por infrarrojos, visual o a través de la oblea, disponible con una precisión de posicionamiento de 1 µmLongitudes de onda de exposición
Existen láseres de diodo de alta potencia de 7 W a 375 nm o 20 W a 405 nm con larga vida útilMandril de vacío multiusos
Disponemos de mandriles de vacío personalizados para aplicaciones con sustratos especiales (por ejemplo, paneles alabeados)Contratos de servicios
Grados de contrato de servicio para una asistencia in situ más rápida y participación en el pool de piezas de recambio
El alineador sin máscara MLA 300 está diseñado para la producción de grandes volúmenes, y ofrece una flexibilidad y precisión inigualables en la litografía industrial. Admite obleas de hasta 300 x 300 mm, y se adapta dinámicamente a las variaciones de la superficie, eliminando la necesidad de una producción de máscaras costosa y lenta. Al sustituir las máscaras tradicionales por la exposición directa de datos, la MLA 300 permite soluciones innovadoras para retos litográficos complejos, como el envasado avanzado, la calibración de sensores y la fabricación de MEMS. Su alto rendimiento, resolución de 1,5 μm, flujo de trabajo simplificado y perfecta integración con los sistemas de ejecución de fabricación (MES) la convierten en la opción ideal para diversas aplicaciones, como dispositivos microfluídicos y otras tecnologías avanzadas.
Características principales
- Producción de alto rendimiento: Optimizado para la producción a escala industrial con un tamaño mínimo de rasgo de 1,5 µm. Para volúmenes mayores, también ofrecemos un modo de escritura de alto rendimiento con un tamaño mínimo de rasgo de 3 µm.
- Precisión avanzada: Este sistema ofrece la máxima calidad óptica, garantizando un patronaje preciso y exacto en una amplia gama de sustratos difíciles.
- Automatización completa: La MLA 300 dispone de automatización completa, incluidas opciones de carga personalizables, software avanzado diseñado para entornos de producción e integración con sistemas MES.
- Tecnología patentada de seguimiento del sustrato: El autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable y uniformidad en todas las superficies.
Aplicaciones
- Embalaje avanzado: Capaz de empaquetar obleas en forma de abanico, compensando las variaciones de altura y desplazamiento del chip.
- Sensores y circuitos integrados de sensores: Diseñados para la fabricación de sensores de alta precisión, garantizando un patronaje preciso y personalizable.
- Dispositivos MEMS y microfluídicos: Ideal para los diseños complejos que requieren las aplicaciones MEMS y microfluídicas.
- Componentes electrónicos discretos: Admite la producción de diversos componentes electrónicos con gran precisión y adaptabilidad.
- Circuitos integrados y ASIC: Optimizado para la producción eficiente de circuitos integrados analógicos y digitales, así como de ASIC.
- Tarjetas de sonda: Permite la producción de tarjetas de sonda de alta precisión garantizando un patrón y una alineación precisos para una comprobación e inspección eficaces.
- Electrónica de potencia: Optimizado para sustratos como los cerámicos, superando las variaciones de alabeo y grosor para ofrecer una calidad constante.
- Pantallas OLED: La alta precisión y flexibilidad hacen de la MLA 300 una elección excelente para la fabricación de pantallas OLED.
Flujo de trabajo y rentabilidad
- La litografía sin máscara supera las limitaciones de los sistemas basados en máscaras, ofreciendo un marco flexible para las correcciones de patrones por troquel, la serialización para el control de calidad o el rastreo de calibración en aplicaciones de sensores.
- Al eliminar la necesidad de adquisición, verificación y gestión de máscaras, el MLA 300 agiliza el proceso de producción, reduciendo tanto el tiempo como la complejidad, ya que los diseños se exponen directamente a partir de los datos.
- La MLA 300 aumenta el rendimiento, sobre todo en aplicaciones con sustratos difíciles, como los afectados por el procesado térmico, gracias a sus capacidades avanzadas.
- Un sistema de autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable incluso en superficies irregulares.
- Los costes de funcionamiento se reducen al mínimo gracias al láser de diodo de larga duración, que se calcula que puede durar hasta 10 años en producción 24/7, y a los requisitos mínimos de consumibles del sistema.
- La modularidad permite un mantenimiento rápido, reduciendo al mínimo el tiempo de inactividad.
Ponte en contacto con nosotros para saber más sobre el Alineador sin máscara MLA 300 y cómo puede optimizar tus procesos de microfabricación de alto rendimiento.
El alineador sin máscara MLA 300 está diseñado para la producción de grandes volúmenes, y ofrece una flexibilidad y precisión inigualables en la litografía industrial. Admite obleas de hasta 300 x 300 mm, y se adapta dinámicamente a las variaciones de la superficie, eliminando la necesidad de una producción de máscaras costosa y lenta. Al sustituir las máscaras tradicionales por la exposición directa de datos, la MLA 300 permite soluciones innovadoras para retos litográficos complejos, como el envasado avanzado, la calibración de sensores y la fabricación de MEMS. Su alto rendimiento, resolución de 1,5 μm, flujo de trabajo simplificado y perfecta integración con los sistemas de ejecución de fabricación (MES) la convierten en la opción ideal para diversas aplicaciones, como dispositivos microfluídicos y otras tecnologías avanzadas.
Características principales
- Producción de alto rendimiento: Optimizado para la producción a escala industrial con un tamaño mínimo de rasgo de 1,5 µm. Para volúmenes mayores, también ofrecemos un modo de escritura de alto rendimiento con un tamaño mínimo de rasgo de 3 µm.
- Precisión avanzada: Este sistema ofrece la máxima calidad óptica, garantizando un patronaje preciso y exacto en una amplia gama de sustratos difíciles.
- Automatización completa: La MLA 300 dispone de automatización completa, incluidas opciones de carga personalizables, software avanzado diseñado para entornos de producción e integración con sistemas MES.
- Tecnología patentada de seguimiento del sustrato: El autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable y uniformidad en todas las superficies.
Aplicaciones
- Embalaje avanzado: Capaz de empaquetar obleas en forma de abanico, compensando las variaciones de altura y desplazamiento del chip.
- Sensores y circuitos integrados de sensores: Diseñados para la fabricación de sensores de alta precisión, garantizando un patronaje preciso y personalizable.
- Dispositivos MEMS y microfluídicos: Ideal para los diseños complejos que requieren las aplicaciones MEMS y microfluídicas.
- Componentes electrónicos discretos: Admite la producción de diversos componentes electrónicos con gran precisión y adaptabilidad.
- Circuitos integrados y ASIC: Optimizado para la producción eficiente de circuitos integrados analógicos y digitales, así como de ASIC.
- Tarjetas de sonda: Permite la producción de tarjetas de sonda de alta precisión garantizando un patrón y una alineación precisos para una comprobación e inspección eficaces.
- Electrónica de potencia: Optimizado para sustratos como los cerámicos, superando las variaciones de alabeo y grosor para ofrecer una calidad constante.
- Pantallas OLED: La alta precisión y flexibilidad hacen de la MLA 300 una elección excelente para la fabricación de pantallas OLED.
Flujo de trabajo y rentabilidad
- La litografía sin máscara supera las limitaciones de los sistemas basados en máscaras, ofreciendo un marco flexible para las correcciones de patrones por troquel, la serialización para el control de calidad o el rastreo de calibración en aplicaciones de sensores.
- Al eliminar la necesidad de adquisición, verificación y gestión de máscaras, el MLA 300 agiliza el proceso de producción, reduciendo tanto el tiempo como la complejidad, ya que los diseños se exponen directamente a partir de los datos.
- La MLA 300 aumenta el rendimiento, sobre todo en aplicaciones con sustratos difíciles, como los afectados por el procesado térmico, gracias a sus capacidades avanzadas.
- Un sistema de autoenfoque en tiempo real compensa las deformaciones u ondulaciones del sustrato, garantizando un patrón impecable incluso en superficies irregulares.
- Los costes de funcionamiento se reducen al mínimo gracias al láser de diodo de larga duración, que se calcula que puede durar hasta 10 años en producción 24/7, y a los requisitos mínimos de consumibles del sistema.
- La modularidad permite un mantenimiento rápido, reduciendo al mínimo el tiempo de inactividad.
Ponte en contacto con nosotros para saber más sobre el Alineador sin máscara MLA 300 y cómo puede optimizar tus procesos de microfabricación de alto rendimiento.
Litografía de escritura directa
Sin costes, esfuerzos ni riesgos de seguridad relacionados con la máscara
Flexibilidad
La escritura directa en la producción industrial permite correcciones del patrón por matriz, por ejemplo, para reaccionar ante distorsiones o variaciones del proceso y la serialización
Ahorra tiempo
Menor tiempo desde la creación del prototipo hasta la producción. La gestión digital del diseño sustituye a la biblioteca de máscaras convencional
Calidad de la exposición
Compensación óptica de escala, rotación; tecnología patentada de seguimiento del sustrato
Autoenfoque dinámico
Uniformidad superior de las dimensiones críticas (CD) en sustratos alabeados u ondulados
Velocidad de exposición
300 x 300 mm2 en 5 minutos (modo de escritura 3, dos módulos de exposición)
Integración completa de las instalaciones
Cargador automático personalizable, mandril para sustratos que incluye sustratos alabeados, “asistentes” de flujo de trabajo personalizados e interfaz con sistemas de ejecución de fabricación (MES).
Fácil de usar
Interfaz de usuario conforme a SEMI; “asistentes” de flujo de trabajo personalizados para los operadores del sistema
Módulo de Carga Automatizada
El plano SEMI-estándar BOLTS puede configurarse para casetes abiertos o Puertos de Carga para FOUP. El número y la configuración de los puertos pueden seleccionarse y personalizarse para sustratos redondos o rectangulares
Sistema de Ejecución de Fabricación (MES)
Integración “asistentes” de flujo de trabajo personalizables para iniciar trabajos de exposición, e integración a un MES central mediante protocolos SECS/GEM u OPC-UA
Alineación trasera
Alineación de la cara posterior por infrarrojos, visual o a través de la oblea, disponible con una precisión de posicionamiento de 1 µm
Longitudes de onda de exposición
Existen láseres de diodo de alta potencia de 7 W a 375 nm o 20 W a 405 nm con larga vida útil
Mandril de vacío multiusos
Disponemos de mandriles de vacío personalizados para aplicaciones con sustratos especiales (por ejemplo, paneles alabeados)
Contratos de servicios
Grados de contrato de servicio para una asistencia in situ más rápida y participación en el pool de piezas de recambio
Customer applications
Why customers choose our systems
Technical Data
| Rendimiento de escritura | Modo de escritura 2 | Modo de escritura 3 |
|---|---|---|
| Líneas y espacios mínimos [µm] | 2 | 3 |
| Tamaño mínimo del rasgo [µm] | 1.5 | 3 |
| Uniformidad CD [3σ, nm] | 200 | 300 |
| Rugosidad del borde [3σ, nm] | 80 | 100 |
| Alineación de la 2ª capa [3σ, nm] | 500 | 700 |
| Alineación posterior [3σ, nm] | 1000 | 1000 |
| Tiempo de exposición (80 mJ/cm² y láser de 405 nm) para 100 x 100 mm². | 2,75 min (un módulo de exposición instalado) | 1,5 min (un módulo de exposición instalado) |
| Tiempo de exposición (80 mJ/cm² y láser de 405 nm) para 200 x 200 mm². | 9 min (un módulo de exposición instalado) 4,7 min (dos módulos de exposición instalados) | 4,6 min (un módulo de exposición instalado) 2,5 min (dos módulos de exposición instalados) |
| Tiempo de exposición (80 mJ/cm² y láser de 405 nm) para 300 x 300 mm². | 19,5 min (un módulo de exposición instalado) 10 min (dos módulos de exposición instalados) | 9,6 min (un módulo de exposición instalado) 5 min (dos módulos de exposición instalados) |
| Velocidad máxima de escritura (láser de 405 nm) [mm²/min] | 4615 (un módulo de exposición instalado) 9000 (dos módulos de exposición instalados) | 9375 (un módulo de exposición instalado) 18000 (dos módulos de exposición instalados) |
| Características del sistema | |
|---|---|
| Fuente de luz | Láser de diodo de alta potencia y larga duración a 375 nm y/o 405 nm |
| Tamaño máximo del sustrato | 300 x 300 mm |
| Área máxima de exposición | 300 x 300 mm |
| Grosor del sustrato | 0,1 - 10 mm |
| Estabilidad de la temperatura interna | ± 0.1°C |
| Enfoque automático en tiempo real | Autoenfoque óptico y neumático |
| Rango dinámico del autoenfoque | Hasta 150 µm |
| Alineación | Alineación avanzada; alineación trasera opcional |
| Automatización | Manipulación y prealineación automática de obleas |
| Dimensiones del sistema (sin la pala cargadora) | |
| Altura × anchura × profundidad | 1980 mm x 1200 mm x 2310 mm |
| Peso | 2600 kg |
| Requisitos de instalación | |
| Eléctrico | 400 VCA, 50/60 Hz, 16 A |
| Aire comprimido | 7 - 10 bar |
Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.
