La herramienta versátil para la investigación y la creación de prototipos con resolución variable y una gran selección de módulos para una fácil personalización
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Why customers choose our systems
Technical Data
| Modo escritura | HiRes | I | II | III | IV | V |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Rendimiento de escritura | ||||||
| Tamaño mínimo de la característica [μm] | 0.3 | 0.6 | 0.8 | 1 | 2 | 4 |
| Líneas y espacios mínimos [μm] | 0.5 | 0.8 | 1 | 1.5 | 3 | 5 |
| Dirección Cuadrícula [nm] | 5 | 10 | 25 | 50 | 100 | 200 |
| Rugosidad del borde [3σ, nm] | 50 | 50 | 70 | 80 | 110 | 160 |
| Uniformidad CD [3σ, nm] | 60 | 70 | 80 | 130 | 250 | 400 |
| Alineación de la 2ª capa sobre 5 x 5 mm² [nm] | 250 | 250 | 250 | 250 | 350 | 500 |
| Alineación de la 2ª capa en 100 x 100 mm² [nm] | 500 | 500 | 500 | 500 | 800 | 1000 |
| Alineación posterior [nm] | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 |
| Con láser de diodo (405 nm) | ||||||
| Velocidad de escritura [mm²/min] | 3 | 13 | 40 | 150 | 600 | 2000 |
| Tiempo de exposición para una superficie de 100 x 100 mm² [min] | 3000 | 740 | 255 | 72 | 20 | 7 |
| Con láser de diodo UV (375 nm) | ||||||
| Velocidad de escritura [mm²/min] | 2 | 10 | 30 | 110 | ||
| Tiempo de exposición para una superficie de 100 x 100 mm² [min] | 5000 | 1015 | 350 | 100 |
| Características del sistema | |
|---|---|
| Fuente de luz | Láser de diodo de 405 nm o 375 nm |
| Tamaños de sustrato | Variable: 5 x 5 mm² a 9″ x 9″ | Personalizable bajo pedido |
| Espesor del sustrato | 0 a 12 mm |
| Área máxima de exposición | 200 x 200 mm |
| Caja de flujo de temperatura controlada | Estabilidad de temperatura ± 0,1°, entorno ISO 4 |
| Enfoque automático en tiempo real | Autoenfoque óptico o autoenfoque por calibre de aire |
| Rango de compensación del enfoque automático | 80 μm |
| Modo Escala de grises Estándar o Avanzado | 128 / 256 niveles de gris respectivamente |
| Modo vectorial | Permite escribir líneas sin puntadas |
| Vista general Cámara | El campo de visión de 8 x 10 mm² facilita la alineación con las marcas y la navegación por el sustrato |
| Alineación trasera (opcional) | Permite alinear las exposiciones con las estructuras de la cara posterior del sustrato |
| Opciones avanzadas - Mejoras de rendimiento | |
| Sistema de coordenadas de alta precisión | Incluye calibración de la placa dorada y control climático: 2ª capa alineación hasta 350 nm |
| Modo Escala de grises profesional | 1024 niveles de gris, programa profesional de conversión de datos |
| Sistema de carga automática | Manipulación de máscaras de hasta 7" y obleas de hasta 8" con dos estaciones portadoras, prealineador y escáner de obleas |
| Dimensiones del sistema de la versión estándar | |
| Anchura × profundidad × altura | 1300 mm × 1100 mm × 1950 mm (sólo unidad litográfica) |
| Peso | 1000 kg (sólo unidad litográfica) |
| Requisitos de instalación | |
| Eléctrico | 230 VCA ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A |
| Aire comprimido | 6 - 10 bar |
