Alineador sin máscara de sobremesa configurable y compacto con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial
Customer applications
(Courtesy of Max-Planck-Institute for terrestrial microbiology)
Why customers choose our systems
Technical Data
| Modo Escritura I * | Modo de escritura II * | Modo de escritura III * | |
|---|---|---|---|
| Rendimiento de escritura (Módulo de exposición de escaneado de trama) | |||
| Tamaño mínimo de la estructura [μm] | 0.6 | 1 | 3 |
| Líneas y espacios mínimos [μm] | 0.8 | 1.5 | 3 |
| Cuadrícula de direcciones [nm] | 20 | 50 | 100 |
| Uniformidad CD [3σ, nm] | 200 | 300 | 400 |
| Alineación de la 2ª capa sobre 5 x 5 mm² [nm]. | 500 | 500 | 1000 |
| Alineación de la 2ª capa sobre 50 x 50 mm² [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
| Velocidad de escritura | con LED de 390 nm / LED de 365 nm | con LED de 390 nm / LED de 365 nm | con LED de 390 nm |
| Velocidad de escritura | 10 mm²/min a 0,6 µm | 40 mm²/min a 1 µm | 100 mm²/min a 3 µm |
| Velocidades de escritura opcionales a diferentes tamaños mínimos de estructura con "Resolución variable para Módulo de exposición de escaneado de trama" | 18 mm²/min a 1 µm | 60 mm²/min a 2 µm | 160 mm²/min a 4 µm |
| 25 mm²/min a 2 µm | 90 mm²/min a 4 µm | 240 mm²/min a 6 µm | |
| Rendimiento de escritura (Módulo de exposición en modo vectorial) | |||
| Tamaño mínimo del rasgo [µm] | 0.6 | 1 | 3 |
| Cuadrícula de direcciones [nm] | 20 | 20 | 20 |
| Alineación de la 2ª capa sobre 5 x 5 mm² [nm] | 500 | 500 | 1000 |
| Alineación de la 2ª capa sobre 50 x 50 mm² [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
| Velocidad máxima de escritura lineal en modo vectorial | 200 mm/s | 200 mm/s | 200 mm/s |
| Tamaños de punto disponibles en modo vectorial [µm] | 0.6 / 1 / 2 / 5 / 10 | 1 / 2 / 5 / 10 / 25 | 3 / 5 / 10 / 25 /50 |
| Especificaciones del sistema | |||
| Tamaño máximo del sustrato | 6″ x 6″ | ||
| Tamaño mínimo del sustrato | 5 x 5 mm2 | ||
| Grosor del sustrato | 0,1 a 12 mm | ||
| Área máxima de escritura | 150 x 150 mm2 |
| Módulo de exposición de barrido de trama | Módulo de exposición vectorial | |
|---|---|---|
| Fuente de luz | LED; 390 nm o 365 nm | Láser; 405 nm y/o 375 nm |
| Dimensiones del sistema (unidad litográfica) | ||
| µMLA | Anchura x Profundidad | Altura x Peso |
| Carcasa del sistema principal | 640 mm (25") x 840 mm (33") | 530 mm (21") x 130 kg (285 lbs) |
| Requisitos de instalación | ||
| Eléctrico | 230 VCA / 6A o 110 VCA / 12A (±5%, 50/60 Hz) | |
| Aire comprimido | 6 - 10 bar | |
| Sala blanca | Se recomienda ISO 6 | |
| Estabilidad térmica | ±1 °C | |
| * Sólo se puede instalar un modo de escritura en el sistema |
