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Instalación en sitio beta del NanoFrazor con capacidades de paralelización en la EPFL

Foto de grupo de la instalación de NanoFrazor en la EPFL.

Zúrich, Suiza — Tras la exitosa introducción del sistema modular de nanolitografía NanoFrazor en 2024, Heidelberg Instruments se enorgullece de anunciar la instalación del NanoFrazor más reciente. El sistema está equipado con los módulos más recientes, que permiten la litografía térmica por sonda de barrido (t-SPL) paralelizada. El sitio beta está alojado por el socio de investigación EPFL, la Escuela Politécnica Federal de Lausana, Suiza. La instalación marca un paso significativo en los esfuerzos conjuntos para llevar a la práctica tecnologías de nanofabricación de próxima generación, prometiendo avances en la investigación y aplicaciones a escala nanométrica.

Diseñado para litografía de alta resolución hasta 20 nm, con flexibilidad de aplicación y mayor rendimiento, el sistema incorpora t-SPL paralelizada con diez puntas calentadas escribiendo simultáneamente, sublimación láser directa (DLS) y automatización avanzada. “La paralelización de t-SPL fue el siguiente paso lógico para avanzar en la nanolitografía térmica. Sin embargo, su implementación estuvo lejos de ser trivial”, afirma la Dra. Emine Cagin, CTO de Heidelberg Instruments Nano AG. “La paralelización requirió una década de desarrollo, culminando en un nuevo marco escalable de electrónica y software que ahora impulsa el nuevo NanoFrazor.”

El nuevo módulo, denominado Decapede, incrementa el rendimiento hasta diez veces sin comprometer las capacidades de alta resolución. “Con el mayor rendimiento, estamos considerando escalar superficies nano en escala de grises que permitan la ingeniería de deformación determinista y localizada de materiales 2D desde el nivel de chip hasta la escala de oblea para una posible integración industrial”, señala Berke Erbas, investigador posdoctoral del Laboratorio de Microsistemas de la EPFL. “También buscamos escalar moldes de nanoimpresión en escala de grises fabricados mediante t-SPL y procesos de grabado en seco.”

EPFL — Un centro de innovación
La experiencia de la EPFL en t-SPL y sus amplias capacidades de nanofabricación la convierten en un sitio beta ideal y marcan la continuación de una asociación de larga duración y confianza con Heidelberg Instruments. El consorcio de grupos de investigación involucrados reúne un profundo conocimiento en t-SPL y diversas técnicas de nanofabricación, junto con nuevas ideas y aplicaciones desafiantes. El compromiso de proporcionar retroalimentación continua ayudará a Heidelberg Instruments a validar aún más el rendimiento del sistema y a perfeccionar las interfaces de usuario.

De la nanoelectrónica a los dispositivos cuánticos: una mirada al futuro
El sitio beta de la EPFL no es solo un lugar de prueba y validación de las capacidades del sistema, sino ante todo un catalizador para la innovación en nanolitografía. Las aplicaciones abarcan nanoelectrónica, plasmónica, dispositivos cuánticos y biosensores nano. Jürgen Brugger, profesor de Microingeniería y Ciencia de Materiales en la EPFL, destaca: “t-SPL ha demostrado ser una excelente herramienta para la formación de investigadores jóvenes gracias a sus capacidades de prototipado rápido con un umbral bajo para crear nanopatrones en escalas de tiempo cortas. Estamos entusiasmados por expandirnos hacia capacidades de escritura paralela.” Por ejemplo, el Laboratorio de Nanociencia para Tecnologías Energéticas (LNET), dirigido por la profesora Giulia Tagliabue, explora el uso de las funcionalidades en escala de grises para realizar metasuperficies avanzadas capaces de confinar fuertemente la luz a escala nanométrica para la conversión de energía y el estudio de procesos interfaciales.
Esperamos con interés ver cómo el sitio beta acelerará los descubrimientos y habilitará nuevas posibilidades en la ciencia a escala nanométrica, tanto en investigación como en el uso educativo del sistema NanoFrazor.

Haga clic aquí para obtener más información sobre el NanoFrazor.

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