Hitos de Heidelberg Instruments' Historia
En 2024, celebramos nuestro 40.º aniversario. Te invitamos a recorrer algunos de los momentos más destacados de nuestra historia.
Redescubre antiguos sistemas de litografía, siempre a la vanguardia en su época, conoce algunos de nuestros edificios anteriores y descubre la apasionante historia de nuestra empresa.
Hitos de Heidelberg Instruments' Historia
1984
Fundación
Heidelberg Instruments fue fundada por un grupo de científicos e investigadores de la Universidad de Heidelberg, el Laboratorio Europeo de Biología Molecular (EMBL) y otros institutos de investigación, con el objetivo de crear productos comerciales basados en su tecnología de escaneo láser y llevarlos al mercado.
1984–1988
Los años de fundación
En los primeros años, la empresa desarrolló una variedad de herramientas: un sistema de medición de perfiles lineales para estructuras de micras y submicras, un módulo de microscopio confocal de escaneo láser, un grabador láser para escribir microestructuras en sustratos recubiertos con resist, un sistema de inspección de obleas y un escáner tomográfico láser.
1989
Reestructuración y fundación de Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Una vez agotado el capital inicial, la empresa se dividió en tres áreas de negocio: microscopía confocal, oftalmoscopía y litografía. Todas las actividades relacionadas con el microscopio láser confocal fueron asumidas por Wild Leitz, que más tarde se convirtió en Leica Lasertechnik GmbH. Se fundaron dos nuevas empresas: Heidelberg Engineering GmbH, para producir el tomógrafo láser, y Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH, fundada en 1989 para continuar las actividades de litografía láser bajo la dirección de Roelof Wijnaendts-van-Resandt.
1991
El primer DWL
El sistema de escritura directa por láser DWL2.0 se diseñó específicamente para la fabricación de matrices de puertas y ASICS de mar de puertas. Se desarrolló en el marco del programa europeo ESPRIT y se comercializó con el nombre de Lasarray. Heidelberg Instruments formó parte temporalmente de esa empresa suiza hasta 1993.
1994
El traslado a Rohrbach
Con el crecimiento inicial de la joven empresa surgió la necesidad de trasladarse del Parque Tecnológico de Heidelberg a unas instalaciones nuevas y más amplias en el sur de Heidelberg. En 1999 se añadió la segunda planta y el edificio conocido cariñosamente como "Halle 1" sirvió como sede de la empresa hasta 2021.
1995
DWL66
The first system specifically designed for low volume, high-precision direct patterning was developed for research institutes and universities. It was called DWL66, referring to the 6″ x 6″ exposure area. The DWL66 filled the requirement of an R&D tool, which was less costly than a DWL2.0.
1994–1996
La Máscara Escribe y el Acuerdo OEM con Gerber
El Mask Write 800 (con una gran área de exposición de 800 mm x 600 mm) fue un sistema de alta resolución destinado a aplicaciones en la producción industrial de fotomáscaras para PCB y backend. Durante una colaboración con la empresa Gerber (EE. UU.), se creó el Mask Write 1550, un grabador para fotomáscaras de 1,55 m utilizadas en la producción de pantallas de plasma.
1996–2002
Presencia mundial
Se instalaron varios sistemas Mask Write 1550 en Japón y Corea. Se fundaron oficinas de atención al cliente en Taiwán, China, EE.UU. y Japón, lo que refleja el aumento de la presencia en el mercado y la expansión en esas zonas. En 2005 se abrió la oficina de Corea.
2002
Crecimiento
El nuevo edificio de producción —el primer edificio construido y propiedad de Heidelberg Instruments Mikrotechnik— supuso un aumento considerable en la capacidad de producción.
2006
El primer sistema de sobremesa
El primer generador de micropatrones de sobremesa, el µPG101, se lanzó en 2006. Durante esos años, Heidelberg Instruments también desarrolló otras máquinas láser para el mercado industrial. Aunque no tuvieron éxito a largo plazo, su desarrollo amplió las competencias tecnológicas de la empresa, como el uso de moduladores de luz espacial para litografía.
2007
El VPG
Sistemas de gran área
Se desarrolló un nuevo tipo de sistema con alta velocidad de exposición, optimizado para la producción de fotomáscaras en los campos de encapsulado de chips, LCD y paneles táctiles. El primer “Volume Pattern Generator” VPG 800 se instaló en un fabricante de PCB en Taiwán para escribir fotomáscaras destinadas a aplicaciones de encapsulado de chips.
2013
El VPG
Sistemas de área pequeña
A los generadores de patrones volumétricos de gran superficie siguieron los sistemas VPG para escritura de pequeña superficie, destinados a aplicaciones de escritura directa principalmente en la producción de máscaras de pequeño y medio volumen, la creación rápida de prototipos, la microfluídica, los MEMS, el envasado avanzado y la producción de LED.
2015
Una parte de la perpetuidad
Hasta 2015, HIMT era una empresa principalmente familiar, con participaciones minoritarias entre los directivos. La fundación RAG Investment Company (RSBG) adquirió el 100% de Heidelberg Instruments. La RSBG financia las "Ewigkeitsaufgaben" (obligaciones perpetuas de gestión minera) resultantes de las explotaciones de hulla en Alemania.
2017
Una historia de éxito: el lanzamiento de los Maskless Aligners
Con la introducción de la serie MLA, Heidelberg Instruments introdujo en el mercado una nueva generación de sistemas de alineación sin máscara. El MLA es un sistema de exposición directa sin máscara de alto rendimiento diseñado para un funcionamiento sencillo y un patronaje de alta velocidad. Se comercializó específicamente para poder sustituir a los alineadores de máscaras o a los steppers.
2018
Lanzamiento del ULTRA
En 2018, se presentó la ULTRA como la grabadora de semiconductores para fotomáscaras maduras. Se basaba en la tecnología VPG
2018
Nanoestructuración: La cartera se amplía
En 2018, Heidelberg Instruments adquirió la mayoría de las acciones de SwissLitho AG. Los sistemas de la empresa suiza se basaban en litografía por sonda de escaneo térmica (t-SPL) para aplicaciones de nanopatrón. La tecnología NanoFrazor utiliza una punta calentada que escribe nanostructuras en un resist.
2019
La familia MLA crece
Se lanzó el MLA 300: el Maskless Aligner para aplicaciones de alto rendimiento, cumpliendo con los requisitos de la industria, como mayor productividad, automatización completa e integración con sistemas de ejecución de fabricación. El Maskless Aligner de sobremesa, ahora integrando funciones del popular µPG, se relanzó como µMLA.
2021
3D real con TPP
Se unió a Heidelberg Instruments la empresa alemana Multiphoton Optics, proveedora de soluciones en litografía láser 3D basada en la tecnología de Polimerización por Dos Fotones (TPP). Se presentó el sistema TPP MPO 100 como una herramienta multiusuario para litografía 3D e impresión 3D de microestructuras.
2021
Traslado y certificación ISO
Heidelberg Instruments se trasladó a unas nuevas instalaciones y ese mismo año recibió la certificación ISO 9001:2015 del TÜV Süd (auditor y proveedor de soluciones de seguridad, protección y sostenibilidad) por su Sistema de Gestión de la Calidad.
2021
Parte del Grupo LAB14
Heidelberg Instruments forma parte ahora del grupo LAB14 de la RSBG. Este grupo está formado por empresas de alta tecnología que ofrecen productos y servicios complementarios para la nano y microfabricación y el análisis de superficies.
2024
Celebración
Heidelberg Instruments celebra su 40.º aniversario. Desde 1984, hemos trabajado con pasión en el desarrollo y la producción de soluciones de litografía. A lo largo de las últimas cuatro décadas, nuestra empresa se ha consolidado firmemente como uno de los líderes mundiales en el sector de la litografía de escritura directa y continúa creciendo de manera sólida.
