Zúrich, Suiza / Heidelberg, Alemania – Heidelberg Instruments anuncia con orgullo el lanzamiento de su nuevo sistema de nanolitografía NanoFrazor, impulsado por décadas de experiencia en micro- y nanofabricación. Esta herramienta versátil, diseñada para alta resolución, flexibilidad, rendimiento y modularidad, puede equiparse con diez palpadores de patrón en paralelo, aumentando significativamente la productividad. Combinando Litografía Térmica por Sonda de Barrido (t-SPL), Sublimación Láser Directa (DLS) y una automatización mejorada, el NanoFrazor respalda la investigación de vanguardia en dispositivos cuánticos, materiales 1D/2D y electrónica a nanoescala, así como aplicaciones en nanofotónica, meta-óptica y nanofluídica.

En el corazón del NanoFrazor se encuentra una punta calefactable ultrafina, que permite el patrón preciso de nanostructuras con resoluciones laterales de hasta 15 nm y resoluciones verticales de hasta 2 nm. Su sistema de inspección in situ ofrece Litografía en Bucle Cerrado (CLL), permitiendo sobreimpresión sin marcadores y ajustes en tiempo real para garantizar una precisión vertical inferior a 2 nm incluso en los patrones en escala de grises más complejos. Esta innovación revolucionaria habilita aplicaciones avanzadas en fotónica, sustratos biomiméticos y modificación local de materiales mediante reacciones químicas o cambios de fase inducidos por calor.

Características clave:

• Litografía Térmica por Sonda de Barrido (t-SPL): patrón de alta precisión para componentes críticos de nanodispositivos.
• Modularidad: la plataforma configurable del NanoFrazor permite soluciones personalizadas según la aplicación y las necesidades del laboratorio. Módulos y actualizaciones adicionales pueden instalarse conforme avance la investigación, ofreciendo flexibilidad y escalabilidad.
• Resolución y rendimiento: con el nuevo módulo Decapede, el rendimiento aumenta diez veces mediante 10 cantilevers térmicos independientes, proporcionando velocidad sin sacrificar resolución.
• Litografía híbrida mix & match: el NanoFrazor admite un módulo de Sublimación Láser Directa (DLS) para escritura más rápida con resolución micrométrica, ideal para patrones de gran área como cables y pads de contacto.

Basado en décadas de I+D originadas en IBM Research Zurich, el NanoFrazor continúa evolucionando en Heidelberg Instruments Nano. Una completa biblioteca de buenas prácticas en grabado, lift-off y otros procesos garantiza que los usuarios puedan optimizar sus resultados en diversas aplicaciones.

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