En el mundo de la nanociencia, que evoluciona rápidamente, los avances pioneros suelen surgir de la exploración impulsada por la curiosidad. El Dr. Nolan Lassaline, investigador postdoctoral en la Universidad Técnica de Dinamarca (DTU), encarna este espíritu de innovación. Su recorrido, desde el estudio del comportamiento de los fotones hasta la superación de los límites de la electrónica cuántica, es una historia fascinante que combina la óptica clásica con técnicas avanzadas de nanofabricación.
En una entrevista exclusiva que se publicará en el próximo tercer número de The Lithographer, el Dr. Lassaline comparte cómo su pasión por la litografía por sonda térmica (t-SPL) comenzó durante su pasantía en IBM Zúrich, cuna de la microscopía de sonda de barrido. Esto marcó una nueva dirección en su trabajo doctoral en la ETH Zúrich, donde utilizó el NanoFrazor para explorar lo desconocido en óptica y crear estructuras revolucionarias de difracción que manipulan fotones y electrones a escala nanométrica. Su enfoque experimental condujo al concepto de “Superficies de Fourier”, un método revolucionario para diseñar la difracción y las estructuras de bandas ópticas.
Ahora, mientras estudia materiales cuánticos en la DTU, el Dr. Lassaline continúa desbloqueando el potencial de los materiales 2D, utilizando t-SPL para programar funcionalidades cuánticas en grafeno. Desde su trabajo en el disco “vinilo” más pequeño jamás cortado hasta ser nominado como Líder Emergente por la revista Journal of Physics: Materials, sus logros lo han llevado por un camino de exploración que combina óptica, electrónica y nanofabricación de formas totalmente nuevas.
¿Quieres saber más sobre su trayectoria y lo que viene en el horizonte? Lee la entrevista completa aquí.
¡Mantente atento al próximo número de The Lithographer!
El portafolio de sistemas y tecnologías de Heidelberg Instruments comprende sistemas de alta precisión Maskless Aligner (MLA) y de litografía láser para la escritura directa de microestructuras 2D y 2.5D para la fabricación de máscaras, así como sistemas basados en litografía por sonda térmica (t-SPL) para nanopatrón avanzado.
La litografía sin máscara, como tecnología de última generación, de alta precisión y gran flexibilidad, es ideal tanto para entornos de investigación y desarrollo como para aquellos que requieren prototipado rápido de tamaños de características mayores a 1 µm. La técnica de litografía sin máscara permite transferir el diseño directamente al wafer sin necesidad de una máscara fotográfica.
En la litografía sin máscara, el patrón se expone directamente sobre la superficie del sustrato con la ayuda de un modulador espacial de luz (SLM), que funciona como una “máscara fotográfica dinámica”.
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