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Cómo la litografía sin máscara permite la próxima generación en el empaquetado avanzado
A medida que la IA y la HPC empujan los circuitos monolíticos hacia la obsolescencia, la industria se dirige al Empaquetado Avanzado. Sin embargo, desafíos como el desplazamiento del dado y la deformación del sustrato amenazan con eliminar el rendimiento antes de que el paquete salga de la fábrica. Entra el nuevo héroe de la microelectrónica: la litografía sin máscara. Aprenda cómo la alineación adaptativa asegura que sus chiplets vivan para computar otro día.
Más allá de la teoría: Ingeniería de dispositivos cuánticos con litografía de precisión
La revolución cuántica está pasando de la teoría a la realidad, como demuestran avances como los “Quantum Echoes” de Google. Escalar desde pequeñas demostraciones hasta sistemas con miles de cúbits requiere una nanofabricación ultra precisa y uniforme. Este artículo examina los desafíos de fabricación y las soluciones litográficas que permiten el salto del laboratorio a la producción a gran escala.
Balance final: Lo más destacado de MNE 2025 en Southampton, Reino Unido
¡Qué semana! Del 15 al 18 de septiembre tuvimos el placer de unirnos a la comunidad de micro y nanofabricación en la 51.ª International Micro and Nano Engineering Conference (MNE 2025) en Southampton, Reino Unido.
Una Década de Descubrimientos: El MLA 150 Maskless Aligner de Heidelberg Instruments cumple 10 años
Heidelberg Instruments celebra con orgullo el 10º aniversario del MLA 150 Maskless Aligner—un avance que ha redefinido la litografía de alta resolución en salas limpias de todo el mundo.
2005-2025: ¡Celebramos los 20 años de Heidelberg Instruments Korea!
Heidelberg Instruments Korea celebra 20 años de compromiso y asociación con sus clientes.
Basada en la confianza, la lealtad y las relaciones a largo plazo, Heidelberg Instruments Korea continúa desempeñando un papel vital en llevar la innovación a sus clientes locales.
Celebrando una Década de Innovación: Únete a Heidelberg Instruments en MNE 2025
¡Únete a Heidelberg Instruments en Southampton para MNE 2025! Estamos orgullosos de patrocinar el prestigioso Fellow Award y esperamos celebrar contigo el 10º aniversario de nuestro MLA 150.
Cerrando la brecha con el haz de electrones: el DWL 66+ ahora ofrece características de 200 nm y una escala de grises sin igual
El DWL 66+ es ahora más potente que nunca, con dos mejoras revolucionarias que redefinen lo que es posible con la litografía óptica.
Escritura Láser Directa para Metasuperficies: Acelerando el futuro de la óptica infrarroja personalizada
La escritura directa por láser acelera la fabricación de metasuperficies infrarrojas personalizadas, lo que permite moldear haces, holografiar y mucho más de forma rápida, flexible y rentable, sin necesidad de litografías complejas.
La Universidad de Loughborough crea el “violín más pequeño del mundo” mostrando las capacidades de NanoFrazor
Los físicos han fabricado el “violín más pequeño del mundo” como asombrosa demostración de sus nuevas capacidades nanolitográficas NanoFrazor.
¡Un éxito rotundo! Reflexión sobre la reunión de la Optica Global Advanced Manufacturing Alliance 2025
Lea el resumen de Heidelberg Instruments sobre la reunión de la Optica Global Advanced Manufacturing Alliance 2025. ¡Gracias a todos por impulsar la innovación fotónica!
Instalación en sitio beta del NanoFrazor con capacidades de paralelización en la EPFL
Tras la exitosa introducción del sistema modular de nanolitografía NanoFrazor en 2024, Heidelberg Instruments se enorgullece de anunciar la instalación del nuevo NanoFrazor en la EPFL.
Heidelberg Instruments informa de un importante pedido del Generador de patrones de volumen VPG+ 1850 FPD a un importante fabricante asiático de fotomáscaras para pantallas
Heidelberg Instruments ha recibido un importante pedido de un fabricante de fotomáscaras de primer nivel de Asia para un sistema VPG+ 1850 FPD, desarrollado sobre la plataforma establecida de su buque insignia, el Generador de patrones de volumen VPG+ 1400 FPD.
Cómo la litografía sin máscara permite la próxima generación en el empaquetado avanzado
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Heidelberg Instruments mejora el sistema de litografía DWL 66⁺, alcanzando una resolución líder en el mercado de 200 nm y 65,536 niveles de gris.
Heidelberg Instruments ha realizado importantes mejoras de rendimiento en su reconocido DWL 66⁺, consolidando su posición como la herramienta de investigación definitiva para la microfabricación.
Cerrando la brecha con el haz de electrones: el DWL 66+ ahora ofrece características de 200 nm y una escala de grises sin igual
El DWL 66+ es ahora más potente que nunca, con dos mejoras revolucionarias que redefinen lo que es posible con la litografía óptica.
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