Impulsando la tecnología, celebrando hitos y construyendo comunidad
¡Qué semana! Del 15 al 18 de septiembre, tuvimos el placer de reunirnos con la comunidad de micro- y nanofabricación en la 51.ª International Micro and Nano Engineering Conference (MNE 2025) en Southampton, Reino Unido. Heidelberg Instruments participó con orgullo como patrocinador Platino y expositor—una tradición de larga data y una gran oportunidad para conectar con colegas de todo el mundo, compartir nuestros últimos avances en litografía láser sin máscara y tecnología de escritura directa, y celebrar un hito muy especial. El 10.º aniversario de nuestro MLA 150 Maskless Aligner fue un verdadero punto culminante de la semana MNE. Desde su lanzamiento en 2015, el MLA 150 se ha consolidado como un “caballo de batalla” indispensable en salas limpias de todo el mundo, ofreciendo un patrón de alto rendimiento, flexible y rentable. Celebramos este importante hito en la historia de Heidelberg Instruments con un momento especial en nuestro stand, brindando con un refrescante cóctel de granada. ¡Nuestro más sincero agradecimiento a todos los que se acercaron y lo celebraron con nosotros!
También nos enorgullece apoyar una vez más el MNE Fellow Award. Este año, el premio fue otorgado al Profesor Emérito Lars Montelius (Universidad de Lund), Director de AM-I, en reconocimiento a sus destacadas contribuciones a la investigación. ¡Enhorabuena, Profesor Montelius! En un emotivo momento durante la ceremonia, le obsequiamos un regalo especial: una oblea microestructurada personalizada, símbolo de precisión, creatividad y espíritu de microfabricación.
A lo largo de la conferencia, nuestros expertos y usuarios de nuestros sistemas subieron al escenario para compartir conocimientos e innovaciones: Mark Rosamond, de la Universidad de Leeds, abrió el BEAMeeting con su experiencia usando el MLA 150. Sven Preuss, gestor de producto estratégico de la serie DWL, presentó en una charla relámpago (¡5 minutos!) las últimas mejoras del DWL 66+, y Julia Stark, ingeniera de I+D del Process and Application Lab de Heidelberg Instruments Nano en Suiza, contribuyó al programa de MNE con su charla “Advances in parallelization of thermal scanning probe lithography and large-area patterning”.
¡Gracias, MNE 2025! Todos disfrutamos reencontrándonos con usuarios, socios y amigos, conociendo nuevas caras y manteniendo conversaciones emocionantes sobre el futuro de la litografía. Gracias a quienes pasaron por nuestro stand, escucharon las charlas o simplemente se acercaron a saludar. ¡Ya estamos deseando veros el año que viene en Suiza!
