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Las grabadoras directas de Heidelberg Instruments redefinen el diseño de los sensores con una flexibilidad y precisión inigualables

  • Description

  • Las grabadoras directas de Heidelberg Instruments permiten una gran precisión, por lo que son adecuadas para sensores con detalles finos y geometrías complejas (series VPG y DWL). Pueden trabajar con diversos materiales, como polímeros, metales y cerámica. Esta flexibilidad es ventajosa para crear sensores con diversas capas funcionales y optimizar las propiedades del material para aplicaciones de detección específicas.

    Los sistemas litográficos sin máscara son herramientas valiosas para la creación rápida de prototipos de diseños de sensores. Los investigadores e ingenieros pueden iterar y probar rápidamente distintas configuraciones de sensores sin necesidad de cambios de máscara que requieren mucho tiempo ni complejas configuraciones litográficas(VPG 300 DI, serie MLA).

    La litografía de sonda de barrido térmico con capacidades de resolución tan finas como 20 nm tiene el potencial de elevar la sensibilidad del sensor fabricado. Abre nuevas posibilidades para el desarrollo de sensores sofisticados y otras tecnologías a nanoescala.

  • Requirements

  • Solutions

Las grabadoras directas de Heidelberg Instruments permiten una gran precisión, por lo que son adecuadas para sensores con detalles finos y geometrías complejas (series VPG y DWL). Pueden trabajar con diversos materiales, como polímeros, metales y cerámica. Esta flexibilidad es ventajosa para crear sensores con diversas capas funcionales y optimizar las propiedades del material para aplicaciones de detección específicas.

Los sistemas litográficos sin máscara son herramientas valiosas para la creación rápida de prototipos de diseños de sensores. Los investigadores e ingenieros pueden iterar y probar rápidamente distintas configuraciones de sensores sin necesidad de cambios de máscara que requieren mucho tiempo ni complejas configuraciones litográficas(VPG 300 DI, serie MLA).

La litografía de sonda de barrido térmico con capacidades de resolución tan finas como 20 nm tiene el potencial de elevar la sensibilidad del sensor fabricado. Abre nuevas posibilidades para el desarrollo de sensores sofisticados y otras tecnologías a nanoescala.

Application images

mr-DWL exposed with a DWL 66+ with 405nm wavelength; comb of lines with varying lengths (linewidth & gap 50 µm)
mr-DWL exposed with a DWL 66+ with 405nm wavelength; comb of lines with varying lengths (linewidth & gap 50 µm)
Fabrication of sensor and digital circuits as part of the research made in the direction of flexible electronics. Multi-Layer thin-film transistor made of six different materials. (Courtesy of Instituto Politécnico Nacional (IPN), Mexico)
Fabrication of sensor and digital circuits as part of the research made in the direction of flexible electronics. Multi-Layer thin-film transistor made of six different materials. (Courtesy of Instituto Politécnico Nacional (IPN), Mexico)
Pattern exposed in AZ positive resist (~3µm) aligned to a pattern structured in a wafer. The structured wafer contains a stack of three metals.
Pattern exposed in AZ positive resist (~3µm) aligned to a pattern structured in a wafer. The structured wafer contains a stack of three metals.
Part of Bolometer, 500nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.
Part of Bolometer, 500nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.
Part of Bolometer, 750nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.
Part of Bolometer, 750nm gap in 700nm AZ MIR 701 positive resist. Courtesy of Tian Yuan Global Corp.
SQUID (Superconducting QUantum Interference Device) made with up to 18 layers process (Lift-off, plating, etching). Critical alignment requirements through thick layers. Yield increased by a factor 3 compared to mask aligners. (Courtesy of Kirchhoff Institute for Physics, Heidelberg)
SQUID (Superconducting QUantum Interference Device) made with up to 18 layers process (Lift-off, plating, etching). Critical alignment requirements through thick layers. Yield increased by a factor 3 compared to mask aligners. (Courtesy of Kirchhoff Institute for Physics, Heidelberg)
Overlay exposure of a 5x5 Matrix of image sensors in SiGe SPADs (Single Photon Avallanche Diode) (Courtesy of IMS Chips)
Overlay exposure of a 5x5 Matrix of image sensors in SiGe SPADs (Single Photon Avallanche Diode) (Courtesy of IMS Chips)
Line Detector in SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) - SEM cross-section (Courtesy of IMS Chips)
Line Detector in SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) - SEM cross-section (Courtesy of IMS Chips)
Structured photoresist of the Metal conductor tracks for SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) (Courtesy of IMS Chips)
Structured photoresist of the Metal conductor tracks for SiGe-SPADs (single photon avalanche diodes made of silicon-germanium) (Courtesy of IMS Chips)
Freeform optic printed on-device: a EEL (Edge Emitting Laser), used for Beam Shaping in Sensors. (Courtesy of nanoplus Nanosystems and Technologies GmbH)
Freeform optic printed on-device: a EEL (Edge Emitting Laser), used for Beam Shaping in Sensors. (Courtesy of nanoplus Nanosystems and Technologies GmbH)
An SEM image of a 20 nm gap in between two metal electrodes patterned by NanoFrazor and transferred via a 3-layer lift-off process
An SEM image of a 20 nm gap in between two metal electrodes patterned by NanoFrazor and transferred via a 3-layer lift-off process

suitable Systems

MLA 150

  • Alineador sin máscara

La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.

µMLA

  • Alineador sin máscara

Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.

DWL 66+

DWL 66+

  • Sistema de litografía láser de escritura directa

Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y amplia selección de opciones.

NanoFrazor tabletop

NanoFrazor

  • Sistema de litografía de sonda de barrido térmico

Versátil y modular herramienta que combina Sonda de exploración térmica Litografía, Directo Sublimación Láser Directa avanzada automatización para corte-vanguardia I+D.

VPG+ 800 Volume Pattern Generator

VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800

  • Generador de patrones de volumen

Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.

VPG 300 DI Maskless Direct Imager

VPG 300 DI

  • Paso a paso sin máscara

Captador directo de imágenes sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución.

ULTRA Semiconductor Mask Writer

ULTRA

  • Escritor de máscaras láser

Una herramienta diseñada específicamente para producir fotomáscaras semiconductoras maduras.

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