Semiconductores

Potenciando la innovación en semiconductores: Heidelberg Instruments' herramientas de litografía de precisión

Los semiconductores se caracterizan por su capacidad para variar su conductividad eléctrica cuando se exponen a factores externos como voltaje, calor o luz. Sirven como base para los dispositivos electrónicos en la tecnología moderna. Los dispositivos semiconductores se construyen sobre obleas compuestas por una variedad de materiales. Algunas obleas consisten en un solo elemento, como el silicio, mientras que otras incorporan una mezcla de elementos, formando estructuras cristalinas complejas con propiedades electrónicas únicas, como ocurre en los semiconductores compuestos.

La fotolitografía es un proceso fundamental en la fabricación de semiconductores que utiliza máscaras o técnicas de escritura directa para transferir patrones precisos sobre las obleas. Desempeña un papel crucial en la definición de las estructuras intrincadas que forman la base de los circuitos integrados y otros dispositivos semiconductores.

Heidelberg Instruments ofrece herramientas adecuadas para varios procesos críticos durante la fabricación de dispositivos basados en semiconductores, desde retículas que requieren alta precisión y uniformidad hasta exposiciones sin máscara de alto rendimiento con patrones adaptativos. Estas herramientas de litografía láser ofrecen versatilidad al permitir la escritura directa sobre superficies recubiertas con fotoresistentes, facilitando el prototipado rápido y la personalización. Su precisión en el alineamiento soporta la producción de dispositivos multicapa y puede corregir el desalineamiento y la deformación de dados individuales. Esto también las hace adecuadas para el empaquetado de semiconductores.

Resistencias de alta calidad

Gran uniformidad y consistencia

Alto rendimiento

Compatibilidad con los procesos existentes

Precisión de alineación y superposición

Láser con excelente calificación _TEM00

para resinas típicas de semiconductores (ULTRA y VPG⁺)

Control medioambiental:

sistema de metrología con autocalibrado

Medición interferométrica de la posición:

corrección del mapa del escenario en tiempo real

Alineación de la segunda capa< 100 nm

(ULTRA)

Manipulación de sustratos deformados

(MLA 300)

Imágenes de aplicaciones

Máscara de retícula 6025 sobre sustrato de cuarzo, para litografía de semiconductores — Cromo sobre placa de cuarzo con líneas y espacios escritos con ULTRA

Máster CMOS con capa de contactos personalizada, utilizado en aplicaciones de litografía de semiconductores — Capa de contactos personalizada sobre máster CMOS prefabricado: contacto en poli-Si (color claro) y contactos en pozos p-/n- (color oscuro) (VPG 300 DI)

Ejemplo de litografía para semiconductores: capa de contactos personalizada y líneas metalizadas sobre máster CMOS prefabricado (VPG 300 DI) — Capa de contactos personalizada y líneas metalizadas sobre máster CMOS prefabricado (VPG 300 DI)

Imagen SEM de estructuras creadas con IP3250 (1 µm), mediante litografía de semiconductores. Imagen cortesía de IMS Chips — Estructuras creadas con IP3250 (espesor de 1 µm) Imagen cortesía de IMS Chips

Parche de chip flexible, cortado por láser y separado de una oblea de 150 mm. Espesor total: 35–65 µm; espesor del chip ≈ 30 µm. Imagen cortesía de IMS Chips, fabricado mediante litografía de semiconductores. — Parche de chip flexible, cortado por láser, separado de una oblea de 150 mm (espesor total de capas: 35–65 µm, espesor del chip ≈ 30 µm) Image courtesy of IMS Chips

Vías con diámetros de 1 µm, 1.25 µm y 1.5 µm (exposición VPG⁺ sobre máscara de cromo), posibles aplicaciones en litografía de semiconductores — Vías con diámetros de 1 µm, 1.25 µm y 1.5 µm (exposición VPG⁺ sobre máscara de cromo)

Sistemas adecuados

MLA 300 Alineador sin máscara

Alineador sin máscara

Optimizada para una producción industrial flexible con la máxima precisión y una integración perfecta en las líneas de producción industrial.

VPG⁺ 200, VPG⁺ 400 y VPG⁺ 800 Generadores de patrones de volumen

Generador de patrones de volumen

Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.

VPG 300 DI Stepper sin máscara

Paso a paso sin máscara

Captador directo de imágenes sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución.

ULTRA Escritor de máscaras de semiconductores

Escritor de máscaras láser

Una herramienta diseñada específicamente para producir fotomáscaras semiconductoras maduras.

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Resistencias de alta calidad

Gran uniformidad y consistencia

Alto rendimiento

Compatibilidad con los procesos existentes

Precisión de alineación y superposición

Láser con excelente calificación _TEM00

Control medioambiental:

Medición interferométrica de la posición:

Alineación de la segunda capa< 100 nm

Manipulación de sustratos deformados

Resistencias de alta calidad

Gran uniformidad y consistencia

Alto rendimiento

Compatibilidad con los procesos existentes

Precisión de alineación y superposición

Láser con excelente calificación _TEM00

Control medioambiental:

Medición interferométrica de la posición:

Alineación de la segunda capa< 100 nm

Manipulación de sustratos deformados

Imágenes de aplicaciones

Sistemas adecuados

MLA 300 Alineador sin máscara

VPG⁺ 200, VPG⁺ 400 y VPG⁺ 800 Generadores de patrones de volumen

VPG 300 DI Stepper sin máscara

ULTRA Escritor de máscaras de semiconductores

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Potenciando la innovación en semiconductores: Heidelberg Instruments' herramientas de litografía de precisión

Resistencias de alta calidad

Gran uniformidad y consistencia

Alto rendimiento

Compatibilidad con los procesos existentes

Precisión de alineación y superposición

Láser con excelente calificación TEM00

Control medioambiental:

Medición interferométrica de la posición:

Alineación de la segunda capa < 100 nm

Manipulación de sustratos deformados

Resistencias de alta calidad

Gran uniformidad y consistencia

Alto rendimiento

Compatibilidad con los procesos existentes

Precisión de alineación y superposición

Láser con excelente calificación TEM00

Control medioambiental:

Medición interferométrica de la posición:

Alineación de la segunda capa < 100 nm

Manipulación de sustratos deformados

Imágenes de aplicaciones

Sistemas adecuados

MLA 300 Alineador sin máscara

VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800 Generadores de patrones de volumen

VPG 300 DI Stepper sin máscara

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Alineación de la segunda capa< 100 nm

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Alineación de la segunda capa< 100 nm

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