Plantillas de nanoimpresión

La litografía de nanoimpresión (NIL) es un método de alto rendimiento utilizado para reproducir nanoestructuras 2D o 2,5D en aplicaciones fotónicas, ópticas y nanofluídicas. El proceso requiere plantillas maestras precisas generadas mediante nano o microlitografía de escritura directa.

Aunque todos los instrumentos de Heidelberg son capaces de producir estructuras 2D adecuadas para la replicación, la litografía en escala de grises permite producir topografías intrincadas. La litografía láser en escala de grises sin máscara es una técnica rápida que genera topografías complejas en una capa fotorresistente sobre un sustrato, que luego se utiliza como patrón para la replicación. La serie DWL es la elección ideal para fabricar rápidamente este tipo de plantillas.

El NanoFrazor, que emplea la litografía en escala de grises con sonda de barrido térmico, puede producir patrones con mayor resolución lateral y una impresionante resolución vertical de 1 nm (eje Z).