Microóptica y Fotónica

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Reflectores, Difusores y Microlentes Fabricados con Excelencia

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  • Los conjuntos de microlentes y las lentes de Fresnel complejas son componentes cruciales en la óptica de las cámaras compactas, debido a la creciente demanda de óptica avanzada y miniaturizada en smartphones y tabletas. Estas microlentes se utilizan en diversas aplicaciones, como sensores de frente de onda, acoplamiento de fibras u homogeneización de fuentes de luz. La producción de estas microlentes comienza con litografía en escala de gr ises para generar un molde, que luego puede replicarse mediante LIGA para crear una cuña metálica, utilizada como herramienta maestra para el moldeo, la impresión o el estampado en caliente. La litografía en escala de grises también se utiliza para fabricar microprismas, guías de ondas, rejillas resplandecientes, CGH (hologramas generados por ordenador) y etiquetas de seguridad especiales, entre otros. La Litografía de Escritura Directa permite fabricar con precisión rejillas VLS (Espaciado entre Líneas Variable) y rejillas estándar. La serie DWL incluye varios sistemas de litografía en escala de grises de alto rendimiento, como el DWL 66+ para I+D y el DWL 2000 GS / DWL 4000 GS para requisitos de gama alta.

    El NanoFrazor es una potente herramienta que puede utilizarse para diversas aplicaciones micro y nanoópticas. Su alta resolución asociada a sus capacidades de litografía en escala de grises lo hacen ideal para fabricar estructuras nanoópticas como rejillas de difracción, superficies ópticas de Fourier, placas de fase y componentes ópticos más intrincados y afinados.

  • Requirements

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Los conjuntos de microlentes y las lentes de Fresnel complejas son componentes cruciales en la óptica de las cámaras compactas, debido a la creciente demanda de óptica avanzada y miniaturizada en smartphones y tabletas. Estas microlentes se utilizan en diversas aplicaciones, como sensores de frente de onda, acoplamiento de fibras u homogeneización de fuentes de luz. La producción de estas microlentes comienza con litografía en escala de gr ises para generar un molde, que luego puede replicarse mediante LIGA para crear una cuña metálica, utilizada como herramienta maestra para el moldeo, la impresión o el estampado en caliente. La litografía en escala de grises también se utiliza para fabricar microprismas, guías de ondas, rejillas resplandecientes, CGH (hologramas generados por ordenador) y etiquetas de seguridad especiales, entre otros. La Litografía de Escritura Directa permite fabricar con precisión rejillas VLS (Espaciado entre Líneas Variable) y rejillas estándar. La serie DWL incluye varios sistemas de litografía en escala de grises de alto rendimiento, como el DWL 66+ para I+D y el DWL 2000 GS / DWL 4000 GS para requisitos de gama alta.

El NanoFrazor es una potente herramienta que puede utilizarse para diversas aplicaciones micro y nanoópticas. Su alta resolución asociada a sus capacidades de litografía en escala de grises lo hacen ideal para fabricar estructuras nanoópticas como rejillas de difracción, superficies ópticas de Fourier, placas de fase y componentes ópticos más intrincados y afinados.

Application images

Irregular Microlens Array - Concave - Pseudo-square arrangement of lenslet. ~18µm (Average side) and ~6µm depth in AZ4562.
Irregular Microlens Array - Concave - Pseudo-square arrangement of lenslet. ~18µm (Average side) and ~6µm depth in AZ4562.
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Tailored diffusers and reflectors have applications for example in light sources and illumination, for example backlight units in LCD displays. This example shows a retro-reflector structure. (Courtesy of karmic.ch)
Tailored diffusers and reflectors have applications for example in light sources and illumination, for example backlight units in LCD displays. This example shows a retro-reflector structure. (Courtesy of karmic.ch)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Microlenses written in 15 μm thick AZ4562, with a pitch of 30 μm and a radius of curvature of 16 μm.
Microlenses written in 15 μm thick AZ4562, with a pitch of 30 μm and a radius of curvature of 16 μm.
This example shows a compound structure – a complex structure made of micro- and nanostructures. The insect eye, for instance (in particular the moth- or fly-eye), consists of a series of compound structures. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)
This example shows a compound structure – a complex structure made of micro- and nanostructures. The insect eye, for instance (in particular the moth- or fly-eye), consists of a series of compound structures. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)
Parts of a waveguide (1 µm wide) made with a VPG 300 DI. Waveguides can guide electromagnetic waves, essential in applications like optical communication and sensors. (Courtesy of IMS Chips)
Parts of a waveguide (1 µm wide) made with a VPG 300 DI. Waveguides can guide electromagnetic waves, essential in applications like optical communication and sensors. (Courtesy of IMS Chips)
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.

suitable Systems

DWL 66+

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  • Sistema de litografía láser de escritura directa

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