Microóptica y fotónica

CONTACTO

Litografía avanzada para microóptica, fotónica y componentes de comunicación óptica

  • Descripción

  • La micro-óptica y la fotónica impulsan la innovación en diversos campos, incluidos la comunicación óptica de alta velocidad, la detección avanzada, las pantallas de próxima generación (AR/VR), la imagen biomédica y las tecnologías cuánticas. Heidelberg Instruments ofrece soluciones de litografía de vanguardia que permiten fabricar los componentes micro y nano esenciales para estos avances.
    Nuestros sistemas ofrecen la precisión, flexibilidad y resolución necesarias para convertir diseños ópticos complejos en realidad, desde la I+D inicial y la creación rápida de prototipos hasta la producción especializada.

    Principales aplicaciones de nuestros sistemas

    • Comunicación óptica y circuitos integrados fotónicos (PIC): Fabrique componentes esenciales como guías de ondas ópticas de baja pérdida, microlentes de acoplamiento de fibra, rejillas WDM (estándar, blazed, VLS), resonadores de anillo y facilite ciclos rápidos de creación de prototipos para PIC.
    • Imágenes y sensores: Produce matrices de microlentes (MLA) de alto rendimiento, lentes Fresnel complejas, elementos ópticos difractivos (DOE), hologramas generados por ordenador (CGH) y ópticas personalizadas para cámaras compactas (smartphones, tabletas), sistemas AR/VR, sensores de frente de onda y dispositivos biomédicos.
    • Conformación y acondicionamiento de haces: Cree microprismas precisos, rejillas de difracción (por ejemplo, rejillas blazed o rejillas de espaciado de línea variable (VLS)), superficies ópticas de Fourier, placas de fase y difusores para homogeneizar fuentes de luz y adaptar haces láser con gran precisión.
    • Aplicaciones avanzadas y replicación: Desarrollo de estructuras nanoópticas, metalentes, elementos de seguridad intrincados y moldes maestros de alta fidelidad para técnicas de replicación rentables y de gran volumen (por ejemplo, NIL, LIGA, estampado en caliente).

    Tecnologías litográficas básicas

    • Litografía de escritura directa (DWL): Nuestra tecnología principal ofrece una flexibilidad sin precedentes. Al eliminar las fotomáscaras, la escritura directa acelera las iteraciones de diseño, reduce los costes de creación de prototipos y series de bajo volumen y permite el estampado directo de estructuras complejas en 2D y 2,5D con gran precisión en diversos sustratos.
    • Litografía en escala de grises de alta resolución: esencial para crear topografías 2.5D intrincadas con superficies suaves y control preciso de la forma. Ideal para microlentes refractivas, rejillas blazed y elementos ópticos complejos con modulación de profundidad precisa (más de 65.000 niveles de gris con el DWL 66+).
    • Litografía de sonda térmica de barrido (t-SPL): el NanoFrazor amplía los límites de la nanofabricación, permitiendo la creación de nano-componentes ópticos, metalentes y dispositivos cuánticos de última generación con resolución inferior a 15 nm, libertad de forma y capacidades únicas de inspección in situ, junto con un control exquisito de profundidad de un solo nanómetro (eje Z).

    Soluciones de Heidelberg Instruments

    Nuestra cartera incluye sistemas adaptados a diversas necesidades:

    • Serie DWL (DWL 66+, DWL 2000 GS / 4000 GS): referencia en litografía de escala de grises y escritura directa de alto rendimiento. El DWL 66+ ofrece máxima versatilidad y resolución para I+D, mientras que la serie DWL GS proporciona producción industrial de micro-óptica y másteres con alto rendimiento y precisión.
    • NanoFrazor: El NanoFrazor es la herramienta definitiva para la investigación y la fabricación de vanguardia en nanoóptica y nanofotónica.

    Asóciese con Heidelberg Instruments para aprovechar nuestra experiencia en litografía avanzada y fabricar los componentes microópticos y fotónicos de alto rendimiento que definen el futuro. Póngase en contacto con nosotros hoy mismo.

  • Requisitos

  • Control muy preciso de la forma

    Excelente rugosidad superficial

    Alto rendimiento

    Sin artefactos de costura.

    Alta Resolución

    Material y tamaños de sustrato flexibles para distintas aplicaciones

    Rejillas de difracción: Requisitos estrictos para la calidad de la superficie, la posición de la ranura y el perfil de la ranura

  • Soluciones

  • Resolución alta y ultra alta

    200 nm (DWL 66+), 15 nm (NanoFrazor)

    Funciones de reducción de unir imágenes

    Permitir superficies lisas de grandes elementos microópticos en fotorresistentes gruesos

    Sustratos desde piezas pequeñas hasta tamaños de panel G8

    Nuestros sistemas ofrecen la posibilidad de elegir el tamaño de escenario adecuado para tu aplicación

    Optimización de la forma

    Se utiliza para simplificar la compensación de los efectos no lineales

    Sistema de platina de alta precisión para una colocación exacta del patrón

    Se utiliza para posicionar perfectamente los dispositivos microópticos

    Modo de escritura específico de la aplicación para optimizar la resolución y el rendimiento

    La elección de los modos de escritura permite llegar al compromiso adecuado para tu aplicación (serie DWL)

La micro-óptica y la fotónica impulsan la innovación en diversos campos, incluidos la comunicación óptica de alta velocidad, la detección avanzada, las pantallas de próxima generación (AR/VR), la imagen biomédica y las tecnologías cuánticas. Heidelberg Instruments ofrece soluciones de litografía de vanguardia que permiten fabricar los componentes micro y nano esenciales para estos avances.
Nuestros sistemas ofrecen la precisión, flexibilidad y resolución necesarias para convertir diseños ópticos complejos en realidad, desde la I+D inicial y la creación rápida de prototipos hasta la producción especializada.

Principales aplicaciones de nuestros sistemas

  • Comunicación óptica y circuitos integrados fotónicos (PIC): Fabrique componentes esenciales como guías de ondas ópticas de baja pérdida, microlentes de acoplamiento de fibra, rejillas WDM (estándar, blazed, VLS), resonadores de anillo y facilite ciclos rápidos de creación de prototipos para PIC.
  • Imágenes y sensores: Produce matrices de microlentes (MLA) de alto rendimiento, lentes Fresnel complejas, elementos ópticos difractivos (DOE), hologramas generados por ordenador (CGH) y ópticas personalizadas para cámaras compactas (smartphones, tabletas), sistemas AR/VR, sensores de frente de onda y dispositivos biomédicos.
  • Conformación y acondicionamiento de haces: Cree microprismas precisos, rejillas de difracción (por ejemplo, rejillas blazed o rejillas de espaciado de línea variable (VLS)), superficies ópticas de Fourier, placas de fase y difusores para homogeneizar fuentes de luz y adaptar haces láser con gran precisión.
  • Aplicaciones avanzadas y replicación: Desarrollo de estructuras nanoópticas, metalentes, elementos de seguridad intrincados y moldes maestros de alta fidelidad para técnicas de replicación rentables y de gran volumen (por ejemplo, NIL, LIGA, estampado en caliente).

Tecnologías litográficas básicas

  • Litografía de escritura directa (DWL): Nuestra tecnología principal ofrece una flexibilidad sin precedentes. Al eliminar las fotomáscaras, la escritura directa acelera las iteraciones de diseño, reduce los costes de creación de prototipos y series de bajo volumen y permite el estampado directo de estructuras complejas en 2D y 2,5D con gran precisión en diversos sustratos.
  • Litografía en escala de grises de alta resolución: esencial para crear topografías 2.5D intrincadas con superficies suaves y control preciso de la forma. Ideal para microlentes refractivas, rejillas blazed y elementos ópticos complejos con modulación de profundidad precisa (más de 65.000 niveles de gris con el DWL 66+).
  • Litografía de sonda térmica de barrido (t-SPL): el NanoFrazor amplía los límites de la nanofabricación, permitiendo la creación de nano-componentes ópticos, metalentes y dispositivos cuánticos de última generación con resolución inferior a 15 nm, libertad de forma y capacidades únicas de inspección in situ, junto con un control exquisito de profundidad de un solo nanómetro (eje Z).

Soluciones de Heidelberg Instruments

Nuestra cartera incluye sistemas adaptados a diversas necesidades:

  • Serie DWL (DWL 66+, DWL 2000 GS / 4000 GS): referencia en litografía de escala de grises y escritura directa de alto rendimiento. El DWL 66+ ofrece máxima versatilidad y resolución para I+D, mientras que la serie DWL GS proporciona producción industrial de micro-óptica y másteres con alto rendimiento y precisión.
  • NanoFrazor: El NanoFrazor es la herramienta definitiva para la investigación y la fabricación de vanguardia en nanoóptica y nanofotónica.

Asóciese con Heidelberg Instruments para aprovechar nuestra experiencia en litografía avanzada y fabricar los componentes microópticos y fotónicos de alto rendimiento que definen el futuro. Póngase en contacto con nosotros hoy mismo.

Control muy preciso de la forma

Excelente rugosidad superficial

Alto rendimiento

Sin artefactos de costura.

Alta Resolución

Material y tamaños de sustrato flexibles para distintas aplicaciones

Rejillas de difracción: Requisitos estrictos para la calidad de la superficie, la posición de la ranura y el perfil de la ranura

Resolución alta y ultra alta

200 nm (DWL 66+), 15 nm (NanoFrazor)

Funciones de reducción de unir imágenes

Permitir superficies lisas de grandes elementos microópticos en fotorresistentes gruesos

Sustratos desde piezas pequeñas hasta tamaños de panel G8

Nuestros sistemas ofrecen la posibilidad de elegir el tamaño de escenario adecuado para tu aplicación

Optimización de la forma

Se utiliza para simplificar la compensación de los efectos no lineales

Sistema de platina de alta precisión para una colocación exacta del patrón

Se utiliza para posicionar perfectamente los dispositivos microópticos

Modo de escritura específico de la aplicación para optimizar la resolución y el rendimiento

La elección de los modos de escritura permite llegar al compromiso adecuado para tu aplicación (serie DWL)

Imágenes de aplicaciones

Matriz irregular de microlentes para aplicaciones en microóptica o fotónica
Matriz irregular de microlentes cóncavas – disposición pseudo-cuadrada… lado ≈18 µm y profundidad ≈6 µm en AZ4562
Imagen de microscopía confocal de una lente de Fresnel convexa, utilizada en micro‑óptica o aplicaciones fotónicas.
DWL 66+: imagen de microscopía confocal de una lente de Fresnel convexa (diámetro 506 µm, altura 10 µm).
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Una lente de Fresnel es un micro‑óptico de volumen y masa reducidos.
DWL 66+: micrografía que muestra una lente de Fresnel (diámetro 506 µm, altura 10 µm).
Imagen de microscopía confocal de una matriz de microlentes en disposición tipo panal.
DWL 66+: imagen de microscopía confocal de una matriz de microlentes en disposición tipo panal (radio del hexágono 10 µm, altura 2,7 µm).
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
Imagen de microscopía confocal de una pirámide.
DWL 66+: imagen de microscopía confocal de una pirámide (paso de 47 µm, altura de 5,8 µm).
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Imagen de microscopía confocal de la parte central de una lente de Fresnel cóncava.
DWL 66+: imagen de microscopía confocal de la parte central de una lente de Fresnel cóncava (diámetro central: 120 µm, altura 11 µm).
Difusores y reflectores personalizados se utilizan en fuentes de luz e iluminación, por ejemplo, en las unidades de retroiluminación de pantallas LCD. Este ejemplo muestra una estructura retrorreflectora.
Difusores y reflectores personalizados se utilizan en fuentes de luz e iluminación, por ejemplo, en las unidades de retroiluminación de pantallas LCD. Este ejemplo muestra una estructura retrorreflectora. (Courtesy of karmic.ch)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Microlentes escritas en una resina fotosensible de 15 µm de espesor / Las microlentes y sus matrices son componentes clave en la microóptica moderna.
Microlentes escritas en una resina fotosensible de 15 µm de espesor / Las microlentes y sus matrices son componentes clave en la microóptica moderna.
Este ejemplo muestra una estructura compuesta, hecha de micro- y nanoestructuras, con textura superficial generada por litografía en escala de grises.
Este ejemplo muestra una estructura compuesta, hecha de micro- y nanoestructuras, con textura superficial generada por litografía en escala de grises. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)
Partes de una guía de onda. Las guías de onda conducen ondas electromagnéticas, esenciales en comunicación óptica y sensores
Partes de una guía de onda (1 µm de ancho) fabricada con un VPG 300 DI. Las guías de onda conducen ondas electromagnéticas, esenciales en aplicaciones como comunicación óptica y sensores. (Cortesía de IMS Chips)
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.
Blazed Gratings de varios ángulos expuestos sobre cristal.
DWL 66+: Blazed Gratings de varios ángulos expuestos sobre cristal.
Lente Fresnel en escala de grises, 5 mm de diámetro, 120 µm de altura, en fotorresistencia mr-P 22G XP.
DWL 66+: Lente Fresnel en escala de grises, 5 mm de diámetro, 120 µm de altura, en fotorresistencia mr-P 22G XP.

Sistemas adecuados

DWL 66+

DWL 66+ Sistema de litografía láser

  • Sistema de litografía láser de escritura directa

Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y una amplia selección de opciones.

DWL 4000 GS Laser Lithography System

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Sistemas de litografía láser

  • Sistema de litografía láser de escritura directa

La herramienta de litografía industrial en escala de grises más avanzada del mercado.

NanoFrazor de sobremesa

NanoFrazor Herramienta de nanolitografía

  • Sistema de litografía de sonda de barrido térmico

Herramienta versátil y modular que combina Litografía por Sonda Térmica, Sublimación Láser Directa y automatización avanzada para I+D de vanguardia.

Ponte en contacto

Estamos siempre a tu disposición.
Envíanos tu solicitud.

SOLICITUD DE VENTA

Inscríbete

Suscríbete a nuestro boletín
para recibir la información más reciente.

SUSCRIBETE

Conecta

Síguenos en las redes sociales para beneficiarte
de una serie de recursos útiles.

Linkedin Youtube

APLICACIONES

TECNOLOGÍAS CENTRALES

CARACTERÍSTICAS PRINCIPALES

PRODUCTOS

BIBLIOTECA

SERVICIO

NOTICIAS Y EVENTOS

EMPRESA

Descargo de responsabilidad: Las traducciones se han creado con ayuda de la IA. Heidelberg Instruments no garantiza la integridad ni la exactitud de las traducciones.

Aviso legal

Protección de datos

Términos y condiciones

Configuración de cookies

Scroll al inicio