Microelectrónica y nanoelectrónica

Los avances en microelectrónica se basan continuamente en la reducción del tamaño de los dispositivos electrónicos y en la incorporación de nuevos materiales en las regiones activas para conseguir velocidades cada vez mayores y nuevas funcionalidades en las estructuras de los dispositivos. Esta exploración de las arquitecturas de los dispositivos y el uso de nuevos materiales requiere un enfoque de creación rápida de prototipos, que permita probar e implementar eficazmente los cambios de diseño.

Las herramientas de litografía sin máscara, como las series MLA, DWL y ^VPG+ de Heidelberg Instruments, han surgido como una tecnología transformadora en la litografía microelectrónica, que ofrece numerosas ventajas en comparación con la fotolitografía tradicional. Su alta resolución y su funcionamiento sin máscaras permiten el patronaje preciso de intrincadas características a microescala, impulsando los límites de la miniaturización. Al eliminar las máscaras físicas, se reducen los costes de producción y es posible la creación rápida de prototipos, lo que acelera los ciclos de desarrollo. La flexibilidad de la tecnología permite la personalización sobre la marcha, adaptando cada dispositivo de la oblea a los requisitos específicos.

El NanoFrazor facilita la nanoelectrónica combinando la Litografía de Sonda de Barrido Térmico (t-SPL) con la Sublimación Láser Directa. Esta técnica de nanolitografía térmica permite crear nanoestructuras en las regiones más críticas de los dispositivos con las resoluciones más altas. La incorporación de la sublimación directa por láser de las mismas resistivos térmicos permite la escritura eficaz de trazas y contactos eléctricos. Como resultado, el NanoFrazor se ha convertido en una opción ideal para la fabricación de dispositivos nanoelectrónicos, sobre todo en aplicaciones como la electrónica cuántica y la detección molecular.