Microelectrónica y nanoelectrónica

Los avances en la microelectrónica dependen continuamente de la miniaturización de los dispositivos electrónicos y de la incorporación de nuevos materiales en las regiones activas para lograr mayores velocidades y nuevas funcionalidades en las estructuras de los dispositivos. Esta exploración de arquitecturas de dispositivos y el uso de nuevos materiales requiere un enfoque de prototipado rápido, que permita una prueba eficiente e implementación ágil de cambios en el diseño.

Las herramientas de litografía sin máscara, como las series MLA, DWL y VPG⁺ de Heidelberg Instruments, han surgido como una tecnología transformadora en la litografía para microelectrónica, ofreciendo numerosas ventajas en comparación con la fotolitografía tradicional. Su alta resolución y funcionamiento sin máscaras permiten el patronado preciso de estructuras microscópicas complejas, impulsando los límites de la miniaturización. Al eliminar las máscaras físicas, se reducen los costos de producción y se hace viable el prototipado rápido, acelerando los ciclos de desarrollo. La flexibilidad de esta tecnología permite una personalización en tiempo real, adaptando cada dispositivo en el wafer según los requisitos específicos.

El NanoFrazor facilita la nanoelectrónica al combinar la litografía térmica por sonda de barrido (t-SPL) con la sublimación directa por láser. Esta técnica de nanolitografía térmica permite la creación de nanoestructuras en las regiones más críticas de los dispositivos con las resoluciones más altas. La incorporación de la sublimación directa por láser sobre las mismas resinas térmicas permite una escritura eficiente de contactos y trazas eléctricas. Como resultado, el NanoFrazor se ha convertido en una opción ideal para la fabricación de dispositivos nanoelectrónicos, especialmente en aplicaciones como la electrónica cuántica y la detección molecular.