µMLA Alineador sin máscara
- Alineador sin máscara
Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Descripción
Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.
Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.
La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.
La Litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a nano- y microescala. Heidelberg Instruments Las herramientas de Litografía de escritura directa de las series DWL y MLA pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de Alta relación de aspecto en Fotorresistentes gruesos y deposición de material en patrones de Fotorresistencia borrados. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).
Requisitos
Soluciones
Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.
Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.
La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.
La Litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a nano- y microescala. Heidelberg Instruments Las herramientas de Litografía de escritura directa de las series DWL y MLA pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de Alta relación de aspecto en Fotorresistentes gruesos y deposición de material en patrones de Fotorresistencia borrados. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).











Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y una amplia selección de opciones.
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
Optimizada para una producción industrial flexible con la máxima precisión y una integración perfecta en las líneas de producción industrial.
Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.
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