Producción flexible de lotes pequeños

  • Descripción

  • Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.

    Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.

    La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.

    La Litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a nano- y microescala. Heidelberg Instruments Las herramientas de Litografía de escritura directa de las series DWL y MLA pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de Alta relación de aspecto en Fotorresistentes gruesos y deposición de material en patrones de Fotorresistencia borrados. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).

  • Requisitos

  • Prototipado rápido

    Varias formas y dimensiones de estructura

    Rendimiento independiente de la complejidad del patrón

  • Soluciones

  • Alto rendimiento

    Velocidades de exposición de hasta 5000 mm²/min

    Litografía en escala de grises (serie DWL)

    Se utiliza para modelar topografías 2,5D simples o complejas (por ejemplo, canales cónicos)

    Elevada relación de aspecto

    Estructuras altas de hasta 1 mm de altura

    Sin rebaje

    Las estructuras pueden utilizarse para replicar

Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.

Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.

La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.

La Litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a nano- y microescala. Heidelberg Instruments Las herramientas de Litografía de escritura directa de las series DWL y MLA pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de Alta relación de aspecto en Fotorresistentes gruesos y deposición de material en patrones de Fotorresistencia borrados. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).

Prototipado rápido

Varias formas y dimensiones de estructura

Rendimiento independiente de la complejidad del patrón

Alto rendimiento

Velocidades de exposición de hasta 5000 mm²/min

Litografía en escala de grises (serie DWL)

Se utiliza para modelar topografías 2,5D simples o complejas (por ejemplo, canales cónicos)

Elevada relación de aspecto

Estructuras altas de hasta 1 mm de altura

Sin rebaje

Las estructuras pueden utilizarse para replicar

Imágenes de aplicaciones

Sistemas adecuados

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