MEMS
Producción flexible de lotes pequeños
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Description
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Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.
Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.
La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.
La litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a escala nanométrica y microescala. Las series DWL y MLA de herramientas de Litografía Láser de Escritura Directa de Heidelberg Instruments pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de alta relación de aspecto en fotorresistencias gruesas y deposición de material en patrones de resistencias borradas. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).
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Requirements
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Solutions
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Los MEMS, abreviatura de sistemas microelectromecánicos, son componentes de microsistemas cuyo tamaño oscila entre 1 µm y 100 µm. Estos diminutos dispositivos permiten la miniaturización de los existentes, proporcionan nuevas funcionalidades utilizando principios físicos no disponibles a macroescala y facilitan el desarrollo de herramientas que operan en el micromundo. Los MEMS pueden aparecer como máquinas complejas, como sensores y actuadores, o como estructuras sencillas, como voladizos, ruedas dentadas u otras piezas mecánicas.
Los MEMS se utilizan en una gran variedad de aplicaciones, como acelerómetros, giroscopios, sensores de presión, biosensores, microbombas, microválvulas y muchas más. Los MOEMS, o sistemas micro-ópticos-electromecánicos, son una desviación de los MEMS estándar que combina la microóptica con otros componentes MEMS. Algunos ejemplos de MOEMS son los interruptores ópticos, los moduladores ópticos y las interconexiones ópticas.
La fabricación de MEMS se basa en la utilización de la tecnología de procesos de semiconductores, que incluye la deposición de capas, el patrón fotolitográfico y las técnicas de grabado para conseguir la forma deseada del dispositivo.
La litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a materiales a escala nanométrica y microescala. Las series DWL y MLA de herramientas de Litografía Láser de Escritura Directa de Heidelberg Instruments pueden utilizarse para crear máscaras de grabado en silicio, estructuras de alta relación de aspecto en fotorresistencias gruesas y deposición de material en patrones de resistencias borradas. Visita las páginas de producto correspondientes para obtener más información (ver más abajo).
Application images
suitable Systems
DWL 66+
- Sistema de litografía láser de escritura directa
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y amplia selección de opciones.
MLA 150
- Alineador sin máscara
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
MLA 300
- Alineador sin máscara
Optimizada para una producción industrial flexible con la máxima precisión y una integración perfecta en las líneas de producción industrial.
VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800
- Generador de patrones de volumen
Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.