µMLA Alineador sin máscara
- Alineador sin máscara
Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Descripción
Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, lo que abre posibles aplicaciones en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para la industria aeroespacial y automovilística, la electrónica flexible y transparente para la tecnología vestible y las pantallas, y el almacenamiento de energía y la purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.
Para superar este desafío, Heidelberg Instruments ofrece herramientas capaces de crear patrones en materiales 1D o 2D con gran precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución de litografía sin daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que impacten las superficies del material.
La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software del NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado junto con flujos de trabajo automatizados.
El NanoFrazor cuenta con capacidades de imagen in situ similares a las de un microscopio AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de ultra alta resolución con elementos pequeños como cables, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la posibilidad de introducir impurezas o defectos.
Heidelberg Instruments también ofrece recetas específicas de postprocesado para la fabricación de dispositivos que complementan la nanolitografía con superposición.
Además, los Alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño de superposición sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.
Gracias a estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden lograr un mejor rendimiento y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.
Requisitos
Soluciones
Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, lo que abre posibles aplicaciones en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para la industria aeroespacial y automovilística, la electrónica flexible y transparente para la tecnología vestible y las pantallas, y el almacenamiento de energía y la purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.
Para superar este desafío, Heidelberg Instruments ofrece herramientas capaces de crear patrones en materiales 1D o 2D con gran precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución de litografía sin daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que impacten las superficies del material.
La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software del NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado junto con flujos de trabajo automatizados.
El NanoFrazor cuenta con capacidades de imagen in situ similares a las de un microscopio AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de ultra alta resolución con elementos pequeños como cables, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la posibilidad de introducir impurezas o defectos.
Heidelberg Instruments también ofrece recetas específicas de postprocesado para la fabricación de dispositivos que complementan la nanolitografía con superposición.
Además, los Alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño de superposición sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.
Gracias a estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden lograr un mejor rendimiento y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.





Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
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