Materiales 1D y 2D

Litografía de bajo daño con superposición de alta precisión en Materiales 1D y 2D sensibles

  • Descripción

  • Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, lo que abre posibles aplicaciones en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para la industria aeroespacial y automovilística, la electrónica flexible y transparente para la tecnología vestible y las pantallas, y el almacenamiento de energía y la purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.

    Para superar este desafío, Heidelberg Instruments ofrece herramientas capaces de crear patrones en materiales 1D o 2D con gran precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución de litografía sin daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que impacten las superficies del material.
    La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software del NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado junto con flujos de trabajo automatizados.
    El NanoFrazor cuenta con capacidades de imagen in situ similares a las de un microscopio AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de ultra alta resolución con elementos pequeños como cables, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la posibilidad de introducir impurezas o defectos.
    Heidelberg Instruments también ofrece recetas específicas de postprocesado para la fabricación de dispositivos que complementan la nanolitografía con superposición.

    Además, los Alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño de superposición sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.

    Gracias a estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden lograr un mejor rendimiento y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.

  • Requisitos

  • Preservar y mantener prístinas las propiedades del material

    Alineación muy precisa y rápida (por ejemplo, con escamas o electrodos existentes)

    Capacidad de patronaje de alta resolución (por ejemplo, para crear cintas)

    Atmósfera inerte para Materiales 2D sensibles al contacto con el aire

  • Soluciones

  • Superposición sin marcadores

    AFM in situ para una alineación de alta precisión

    Patrones no invasivos

    Las propiedades del material no se ven afectadas por partículas cargadas o residuos resistentes

    Resolución ultra alta (NanoFrazor)

    Huecos estrechos, cintas, electrodos de compuerta, constricciones, etc.

    Guantera (NanoFrazor y µMLA)

    Nanopatrones de materiales sensibles en atmósfera inerte controlada

Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, lo que abre posibles aplicaciones en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para la industria aeroespacial y automovilística, la electrónica flexible y transparente para la tecnología vestible y las pantallas, y el almacenamiento de energía y la purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.

Para superar este desafío, Heidelberg Instruments ofrece herramientas capaces de crear patrones en materiales 1D o 2D con gran precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución de litografía sin daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que impacten las superficies del material.
La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software del NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado junto con flujos de trabajo automatizados.
El NanoFrazor cuenta con capacidades de imagen in situ similares a las de un microscopio AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de ultra alta resolución con elementos pequeños como cables, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la posibilidad de introducir impurezas o defectos.
Heidelberg Instruments también ofrece recetas específicas de postprocesado para la fabricación de dispositivos que complementan la nanolitografía con superposición.

Además, los Alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño de superposición sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.

Gracias a estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden lograr un mejor rendimiento y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.

Preservar y mantener prístinas las propiedades del material

Alineación muy precisa y rápida (por ejemplo, con escamas o electrodos existentes)

Capacidad de patronaje de alta resolución (por ejemplo, para crear cintas)

Atmósfera inerte para Materiales 2D sensibles al contacto con el aire

Superposición sin marcadores

AFM in situ para una alineación de alta precisión

Patrones no invasivos

Las propiedades del material no se ven afectadas por partículas cargadas o residuos resistentes

Resolución ultra alta (NanoFrazor)

Huecos estrechos, cintas, electrodos de compuerta, constricciones, etc.

Guantera (NanoFrazor y µMLA)

Nanopatrones de materiales sensibles en atmósfera inerte controlada

Imágenes de aplicaciones

Sistemas adecuados

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