Materiales 1D y 2D
Litografía de bajo daño con superposición de alta precisión en materiales sensibles 1D y 2D
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Description
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Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, desbloqueando aplicaciones potenciales en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para las industrias aeroespacial y automovilística, en electrónica flexible y transparente para tecnología vestible y pantallas, y en almacenamiento de energía y purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.
Para superar este reto, Heidelberg Instruments proporciona herramientas que pueden modelar materiales 1D o 2D con precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución litográfica libre de daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que incidan en las superficies del material. La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado combinado con flujos de trabajo listos para la automatización. El NanoFrazor tiene capacidades de obtención de imágenes in situ similares a las del AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de resolución ultraalta con elementos pequeños como alambres, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la probabilidad de introducir impurezas o defectos. Heidelberg Instruments también proporciona recetas de posprocesamiento específicas para la fabricación de dispositivos, como complemento de la nanolitografía con superposición.
Además, los alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño superpuesto sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.
Con la ayuda de estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden tener un rendimiento mejorado y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.
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Requirements
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Solutions
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Los dispositivos fabricados con estructuras unidimensionales (1D) y bidimensionales (2D) pueden mostrar fenómenos físicos fascinantes, desbloqueando aplicaciones potenciales en electrónica de alto rendimiento, detección y computación cuántica, así como dispositivos fotónicos para su uso en comunicaciones y captación de energía. También tienen usos potenciales en materiales ultrarresistentes y ligeros para las industrias aeroespacial y automovilística, en electrónica flexible y transparente para tecnología vestible y pantallas, y en almacenamiento de energía y purificación del agua. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar considerablemente el rendimiento de estos dispositivos.
Para superar este reto, Heidelberg Instruments proporciona herramientas que pueden modelar materiales 1D o 2D con precisión y exactitud, evitando al mismo tiempo impurezas y defectos. Por ejemplo, el NanoFrazor proporciona una solución litográfica libre de daños para este tipo de aplicaciones, sin efectos de carga ni haces energéticos que incidan en las superficies del material. La superposición precisa sobre las nanoestructuras de interés se realiza directamente en el software NanoFrazor, aprovechando el sensor de topografía integrado combinado con flujos de trabajo listos para la automatización. El NanoFrazor tiene capacidades de obtención de imágenes in situ similares a las del AFM, lo que permite una alineación precisa de patrones de resolución ultraalta con elementos pequeños como alambres, cintas, tubos o escamas, reduciendo así la probabilidad de introducir impurezas o defectos. Heidelberg Instruments también proporciona recetas de posprocesamiento específicas para la fabricación de dispositivos, como complemento de la nanolitografía con superposición.
Además, los alineadores sin máscara de la serie MLA disponen de un “Modo Dibujo” que permite crear un diseño superpuesto sobre una imagen microscópica en tiempo real de elementos pequeños, lo que resulta ideal para crear conexiones y, al mismo tiempo, evitar impurezas y defectos.
Con la ayuda de estas herramientas, los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D pueden tener un rendimiento mejorado y utilizarse en una amplia gama de aplicaciones.
Application images
suitable Systems
DWL 66+
- Sistema de litografía láser de escritura directa
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y amplia selección de opciones.
NanoFrazor
- Sistema de litografía de sonda de barrido térmico
Versátil y modular herramienta que combina Sonda de exploración térmica Litografía, Directo Sublimación Láser Directa avanzada automatización para corte-vanguardia I+D.