Dispositivos cuánticos
Una megatendencia con grandes exigencias para la litografía
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Descripción
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Existe un interés notable y en rápido crecimiento por las actividades de investigación y desarrollo centradas en los dispositivos cuánticos en todo el mundo. El potencial de estos futuros dispositivos cuánticos para revolucionar la informática, la detección y la comunicación de datos es tremendo. Los prototipos y conceptos de dispositivos cuánticos son increíblemente diversos y se basan en una amplia gama de partículas y cuasipartículas, cada una elegida por sus propiedades e interacciones únicas.
Para apoyar los avances en la investigación cuántica, Heidelberg Instruments ofrece un amplio portafolio de herramientas que pueden fabricar diversas estructuras cruciales para diferentes áreas de la investigación cuántica. Nuestro amplio conjunto de herramientas incluye el NanoFrazorLa máquina de fabricación de estructuras cuánticas, conocida por su capacidad de resolución ultraalta. Permite una fabricación precisa al tiempo que minimiza los daños, y proporciona un puente hacia la producción futura. Además, nuestra serie DWL permite la creación de topografías 2,5D, mientras que la serie VPG+ produce máscaras de alta precisión adecuadas para la fabricación en serie. Nuestros Alineadores sin máscara (MLA) son ideales para la fabricación de dispositivos multicapa. La ULTRA Semiconductor Mask Writer ofrece Litografía de escritura directa de alta resolución y precisión, esencial para fabricar estructuras a nanoescala, clave para tecnologías cuánticas como circuitos superconductores, puntos cuánticos y chips cuánticos fotónicos.
En particular, las capacidades de Litografía de escritura directa combinadas con la alta resolución que ofrecen las herramientas Heidelberg Instruments’ facilitan el desarrollo y la producción de dispositivos cuánticos. En particular, el NanoFrazor destaca por su función de superposición sin marcadores, que aprovecha el lector integrado para alinear con precisión varias regiones activas superpuestas.
Con el portafolio de herramientas de Heidelberg Instruments’, los investigadores e ingenieros del campo cuántico tienen acceso a capacidades de fabricación avanzadas que les permiten superar los límites del desarrollo de dispositivos cuánticos. Estas herramientas apoyan la realización de diversos conceptos de dispositivos cuánticos, allanando el camino para futuros avances en computación cuántica, detección y comunicación de datos.
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Requisitos
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Patrones de resolución ultra alta para estructuras bien definidas (por ejemplo, para huecos de túnel o cavidades plasmónicas)
Litografía sin daños, sin efectos nocivos en los materiales cuánticos (por ejemplo, aislantes topológicos).
Colocación rápida y precisa de electrodos en materiales de baja dimensión con posiciones desconocidas (copos de materiales 2D, nanohilos dispersos, etc.)
El entorno de escala de grises y la topografía pueden ser cruciales para afinar las interacciones de los fotones en los dispositivos cuánticos
Prototipado rápido es una ventaja significativa en un campo de investigación dinámico
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Soluciones
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Resolución ultra alta
Necesario para rasgos bien definidos y huecos con baja rugosidad de los bordesNanolitografía sin daños (NanoFrazor)
La técnica no destructiva sin utilizar haces cargados de alta energía permite trabajar con materiales sensiblesSuperposición precisa
Es posible simplemente dibujando los electrodos sobre la topografía o la imagen óptica (series NanoFrazor y MLA)Litografía en escala de grises precisa
Se utiliza para controlar las topografías de escala de grises hasta el nanómetro único
Existe un interés notable y en rápido crecimiento por las actividades de investigación y desarrollo centradas en los dispositivos cuánticos en todo el mundo. El potencial de estos futuros dispositivos cuánticos para revolucionar la informática, la detección y la comunicación de datos es tremendo. Los prototipos y conceptos de dispositivos cuánticos son increíblemente diversos y se basan en una amplia gama de partículas y cuasipartículas, cada una elegida por sus propiedades e interacciones únicas.
Para apoyar los avances en la investigación cuántica, Heidelberg Instruments ofrece un amplio portafolio de herramientas que pueden fabricar diversas estructuras cruciales para diferentes áreas de la investigación cuántica. Nuestro amplio conjunto de herramientas incluye el NanoFrazorLa máquina de fabricación de estructuras cuánticas, conocida por su capacidad de resolución ultraalta. Permite una fabricación precisa al tiempo que minimiza los daños, y proporciona un puente hacia la producción futura. Además, nuestra serie DWL permite la creación de topografías 2,5D, mientras que la serie VPG+ produce máscaras de alta precisión adecuadas para la fabricación en serie. Nuestros Alineadores sin máscara (MLA) son ideales para la fabricación de dispositivos multicapa. La ULTRA Semiconductor Mask Writer ofrece Litografía de escritura directa de alta resolución y precisión, esencial para fabricar estructuras a nanoescala, clave para tecnologías cuánticas como circuitos superconductores, puntos cuánticos y chips cuánticos fotónicos.
En particular, las capacidades de Litografía de escritura directa combinadas con la alta resolución que ofrecen las herramientas Heidelberg Instruments’ facilitan el desarrollo y la producción de dispositivos cuánticos. En particular, el NanoFrazor destaca por su función de superposición sin marcadores, que aprovecha el lector integrado para alinear con precisión varias regiones activas superpuestas.
Con el portafolio de herramientas de Heidelberg Instruments’, los investigadores e ingenieros del campo cuántico tienen acceso a capacidades de fabricación avanzadas que les permiten superar los límites del desarrollo de dispositivos cuánticos. Estas herramientas apoyan la realización de diversos conceptos de dispositivos cuánticos, allanando el camino para futuros avances en computación cuántica, detección y comunicación de datos.
Patrones de resolución ultra alta para estructuras bien definidas (por ejemplo, para huecos de túnel o cavidades plasmónicas)
Litografía sin daños, sin efectos nocivos en los materiales cuánticos (por ejemplo, aislantes topológicos).
Colocación rápida y precisa de electrodos en materiales de baja dimensión con posiciones desconocidas (copos de materiales 2D, nanohilos dispersos, etc.)
El entorno de escala de grises y la topografía pueden ser cruciales para afinar las interacciones de los fotones en los dispositivos cuánticos
Prototipado rápido es una ventaja significativa en un campo de investigación dinámico
Resolución ultra alta
Nanolitografía sin daños (NanoFrazor)
Superposición precisa
Litografía en escala de grises precisa
Imágenes de aplicaciones
Sistemas adecuados
DWL 66+
- Sistema de litografía láser de escritura directa
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y una amplia selección de opciones.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
- Sistema de litografía láser de escritura directa
La herramienta de litografía industrial en escala de grises más avanzada del mercado.
MLA 150 Alineador sin máscara
- Alineador sin máscara
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
NanoFrazor
- Sistema de litografía de sonda de barrido térmico
Versátil y modular herramienta que combina Sonda de exploración térmica Litografía, Directo Sublimación Láser Directa avanzada automatización para corte-vanguardia I+D.
VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800
- Generador de patrones de volumen
Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.
ULTRA Escritor de máscaras de semiconductores
- Escritor de máscaras láser
Una herramienta diseñada específicamente para producir fotomáscaras semiconductoras maduras.