µMLA Alineador sin máscara
- Alineador sin máscara
Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Descripción
El trabajo con materiales a escala nano y micro exige prestar atención al impacto que tienen las dimensiones de los patrones y los dispositivos en las propiedades de los materiales.
La litografía de escritura directa ofrece un método flexible para modificar y dar forma a los materiales a estas escalas, lo que permite controlar una amplia gama de propiedades físicas. Las series DWL y MLA de Heidelberg Instruments utilizan la litografía láser de escritura directa para crear patrones, estructuras y texturas a escala micro, así como contactos para dispositivos electrónicos y mediciones.
Además, la Litografía Térmica por Sonda de Barrido (t-SPL) puede utilizarse para iniciar modificaciones de materiales a nanoescala, con la capacidad adicional de aplicar calentamiento local. El NanoFrazor proporciona una herramienta de litografía altamente precisa y versátil, que permite aplicar calentamiento ultrarrápido, enfriamiento y alta presión local a materiales a nanoescala, abriendo el acceso a estados de la materia que pueden no ser accesibles macroscópicamente.
Estas técnicas de Litografía de escritura directa pueden utilizarse para estudiar y controlar las propiedades físicas de los materiales, con aplicaciones potenciales en campos como la electrónica de alto rendimiento, el almacenamiento de energía y la purificación del agua. A medida que las dimensiones de los patrones y los dispositivos siguen reduciéndose, la Litografía de escritura directa ofrece un camino prometedor hacia el avance continuo de la nanotecnología.
A continuación se muestran algunas imágenes relacionadas con la Ciencia de los materiales y los sistemas adecuados para esta aplicación.
Requisitos
Soluciones
El trabajo con materiales a escala nano y micro exige prestar atención al impacto que tienen las dimensiones de los patrones y los dispositivos en las propiedades de los materiales.
La litografía de escritura directa ofrece un método flexible para modificar y dar forma a los materiales a estas escalas, lo que permite controlar una amplia gama de propiedades físicas. Las series DWL y MLA de Heidelberg Instruments utilizan la litografía láser de escritura directa para crear patrones, estructuras y texturas a escala micro, así como contactos para dispositivos electrónicos y mediciones.
Además, la Litografía Térmica por Sonda de Barrido (t-SPL) puede utilizarse para iniciar modificaciones de materiales a nanoescala, con la capacidad adicional de aplicar calentamiento local. El NanoFrazor proporciona una herramienta de litografía altamente precisa y versátil, que permite aplicar calentamiento ultrarrápido, enfriamiento y alta presión local a materiales a nanoescala, abriendo el acceso a estados de la materia que pueden no ser accesibles macroscópicamente.
Estas técnicas de Litografía de escritura directa pueden utilizarse para estudiar y controlar las propiedades físicas de los materiales, con aplicaciones potenciales en campos como la electrónica de alto rendimiento, el almacenamiento de energía y la purificación del agua. A medida que las dimensiones de los patrones y los dispositivos siguen reduciéndose, la Litografía de escritura directa ofrece un camino prometedor hacia el avance continuo de la nanotecnología.
A continuación se muestran algunas imágenes relacionadas con la Ciencia de los materiales y los sistemas adecuados para esta aplicación.








Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Nuestro sistema más versátil para I+D y prototipado rápido, con resolución de hasta 200 nm y capacidades profesionales de escala de grises.
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
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