µMLA Alineador sin máscara
- Alineador sin máscara
Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
Descripción
Trabajar con materiales a nano- y microescala requiere prestar atención al impacto de las dimensiones del patrón y del dispositivo en las propiedades del material.
La Litografía de escritura directa ofrece un método flexible para modificar y dar forma a los materiales a estas escalas, lo que permite controlar una serie de propiedades físicas. Heidelberg Instruments Las series DWL y MLA utilizan la Litografía de escritura láser directa para crear patrones, estructuras y texturas a microescala, así como contactos para dispositivos electrónicos y mediciones.
Además, la Litografía térmica con sonda de barrido térmico (t-SPL) puede utilizarse para iniciar modificaciones del material a nanoescala, con la capacidad añadida de aplicar calentamiento local. El NanoFrazor proporciona una herramienta muy precisa y versátil para la litografía, que permite aplicar un calentamiento ultrarrápido, un enfriamiento y una presión local elevada a los materiales a nanoescala, abriendo el acceso a estados de la materia que pueden no ser accesibles macroscópicamente.
Estas técnicas de Litografía de escritura directa pueden utilizarse para estudiar y controlar las propiedades físicas de los materiales, con aplicaciones potenciales en campos como la electrónica de alto rendimiento, el almacenamiento de energía y la purificación del agua. A medida que las dimensiones de los patrones y los dispositivos siguen reduciéndose, la Litografía de escritura directa ofrece un camino prometedor hacia el avance continuo de la nanotecnología.
A continuación se muestran algunas imágenes relacionadas con la Ciencia de los materiales y los sistemas adecuados para esta aplicación.
Requisitos
Soluciones
Trabajar con materiales a nano- y microescala requiere prestar atención al impacto de las dimensiones del patrón y del dispositivo en las propiedades del material.
La Litografía de escritura directa ofrece un método flexible para modificar y dar forma a los materiales a estas escalas, lo que permite controlar una serie de propiedades físicas. Heidelberg Instruments Las series DWL y MLA utilizan la Litografía de escritura láser directa para crear patrones, estructuras y texturas a microescala, así como contactos para dispositivos electrónicos y mediciones.
Además, la Litografía térmica con sonda de barrido térmico (t-SPL) puede utilizarse para iniciar modificaciones del material a nanoescala, con la capacidad añadida de aplicar calentamiento local. El NanoFrazor proporciona una herramienta muy precisa y versátil para la litografía, que permite aplicar un calentamiento ultrarrápido, un enfriamiento y una presión local elevada a los materiales a nanoescala, abriendo el acceso a estados de la materia que pueden no ser accesibles macroscópicamente.
Estas técnicas de Litografía de escritura directa pueden utilizarse para estudiar y controlar las propiedades físicas de los materiales, con aplicaciones potenciales en campos como la electrónica de alto rendimiento, el almacenamiento de energía y la purificación del agua. A medida que las dimensiones de los patrones y los dispositivos siguen reduciéndose, la Litografía de escritura directa ofrece un camino prometedor hacia el avance continuo de la nanotecnología.
A continuación se muestran algunas imágenes relacionadas con la Ciencia de los materiales y los sistemas adecuados para esta aplicación.








Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.
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La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
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